하기 화학식 1로서 표시되는 화합물을 포함하는, 양자점 리간드 가교제 및 양자점 화합물을 포함하는, 양자점 잉크 조성물:[화학식 1] (A)a-L-(B)b,상기 화학식 1에서,a 및 b는, 2≤a+b≤6, a≥1, 및 b=0를 동시에 만족하는 것이고,L은 , , 치환 또는 비치환된 선형 또는 분지형의 C1-20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3-20의 시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 선형 또는 분지형의 C1-20의 헤테로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3-20의 헤테로시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C5-20의 아릴렌기, 및 치환 또는 비치환된 C5-20의 헤테로아릴렌기 중에서 선택되는 것이고, 상기 헤테로알킬렌기, 헤테로시클로알킬렌기, 및 헤테로아릴렌기에 포함되는 헤테로 원자는 N, O, S, 및 P에서 선택되는 것이고,A는 하기 화학식 2로서 표시되는 것이고,[화학식 2],B는 하기 화학식 3 또는 화학식 4로서 표시되는 것이고,[화학식 3],[화학식 4],상기 화학식 2, 화학식 3 및 화학식 4에서,파선은 결합 부위를 표시한 것이고,m은 0 내지 5의 정수이고, n은 1 내지 3의 정수이고,o는 0 내지 2의 정수이고,p는 0 또는 1이고, q는 0 또는 1이고,s는 0 또는 1이고,X는 수소, 선형 또는 분지형의 C1-4의 알킬기, 할로겐기, -CN, -NO2, -OR1, -SR1, 또는 -NR1R2이며,R1 및 R2는, 각각 독립적으로, -H, 선형 또는 분지형의 C1-6의 알킬기, 또는 페닐기이거나; 또는 서로 연결된 치환 또는 비치환된 C2-8의 고리형 알킬기로서 -NR1R2는 질소를 하나 이상 포함하는 고리형 아미노기이고,Y는 -O-, -S-, 또는 -NH-이며,Z는 선형 또는 분지형의 C1-20의 알킬렌기, 또는 선형 또는 분지형의 C1-20의 알킬렌옥사이드기임.

제 1 항에 있어서,상기 A는 하기 화학식 2-1 또는 화학식 2-2로서 표시되는 것인, 양자점 잉크 조성물:[화학식 2-1],[화학식 2-2], 상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,X는 -F, -Cl, -Br, -I, , 또는 이고,Y는 -O-, -S-, 또는 -NH-임.

제 1 항에 있어서,상기 L은 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기 또는 페닐렌기인 것인, 양자점 잉크 조성물.

제 1 항에 있어서,상기 양자점 리간드 가교제는 , , , , 및 중에서 선택되는 화합물을 하나 이상 포함하는 것인, 양자점 잉크 조성물.

삭제

제 1 항에 있어서, 상기 양자점 잉크 조성물은 100℃ 내지 300℃의 열원에 의하여 가교 반응이 수행되는 것인, 양자점 잉크 조성물.

제 1 항에 있어서, 상기 양자점 잉크 조성물은 자외선 또는 가시광선인 광원에 의하여 가교 반응이 수행되는 것인, 양자점 잉크 조성물.

제 7 항에 있어서, 상기 자외선은 300 nm 내지 380 nm의 파장대역인 것인, 양자점 잉크 조성물.

제 1 항에 따른 양자점 잉크 조성물을 가교하여 형성되는, 양자점 패턴.