| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)으로 배양 기판에 메타아크릴레이트계 화합물 단량체가 중합된 고분자 박막을 증착 코팅하여 소수성 표면으로 개질하는 단계;대뇌 피질로부터 혼합된 아교세포를 추출하는 단계; 추출한 아교세포를 코팅된 배양 기판에 배양하는 단계; 및배양 기판 바닥에 부착된 단일 세포 및 배양액 내에 부유하는 스페로이드를 분리하는 단계를 포함하며,상기 메타아크릴레이트계 화합물은 Cyclohexyl methacrylate이고,상기 고분자 박막은 poly Cyclohexyl methacrylate인 것을 특징으로 하는 iCVD 공정을 이용한 아교세포를 분리 배양하는 방법. |
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| 5 | 제 1 항에 있어서, 상기 코팅된 배양 기판은 접촉각이 80 내지 90° 인 것을 특징으로 하는 iCVD 공정을 이용한 아교세포를 분리 배양하는 방법. |
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| 7 | 제 1 항에 있어서, 상기 혼합된 아교세포를 배양하는 단계는 100,000cells/cm2 이상의 농도로 5일차까지 배양을 지속하는 것을 특징으로 하는 iCVD 공정을 이용한 아교세포를 분리 배양하는 방법. |
| 8 | 개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)으로 메타아크릴레이트계 화합물 단량체가 중합된 고분자 박막이 코팅된 아교세포 분리용 배양 기판으로서,상기 메타아크릴레이트계 화합물은 Cyclohexyl methacrylate이고,상기 고분자 박막은 poly Cyclohexyl methacrylate인 것을 특징으로 하는 아교세포 분리용 배양 기판. |
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| 12 | 제 8 항에 있어서, 상기 코팅된 배양 기판은 접촉각이 80 내지 90°인 것을 특징으로 하는 배양 기판. |
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