가역적 변형 입자 및 그 제조방법
REVERSIBLE DEFORMATION PARTICLE AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME
특허 요약
본 발명은 외부 환경에 반응하여 형태가 변형되는 입자에 관한 것으로, 본 발명의 가역적 변형 입자는, 양친성 블록 공중합체; 및 계면활성제;를 포함하고, 외부 조건에 따라, 제1 형태 및 제2 형태로 가역적으로 변하는 것이다.
청구항
번호청구항
1

양친성 블록 공중합체; 및 계면활성제;를 포함하고,외부 조건에 따라, 제1 형태 및 제2 형태로 가역적으로 변하는 것이고,상기 양친성 블록 공중합체는, 제1 단위 고분자 및 제2 단위 고분자를 포함하고, 상기 계면활성제는, 제1 계면활성제 및 제2 계면활성제를 포함하는 것이고, 상기 제1 계면활성제는, PNIPAM, PNNPAM, PNIPMAM, AZTMA, BTHA 및 PDEAEMA로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 것이고, 상기 제2 계면활성제는, CTAB (cetyl trimethylammonium bromide), CPC(cetylpyridinium chloride), BAC (benzalkonium chloride), SDS (sodium dodecylsulfate), Spans (sorbitan alkyl esters) 및 Triton X-100로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 것인, 가역적 변형 입자.

2

제1항에 있어서,상기 외부 조건은, 온도, pH 농도, CO2 농도, O2 농도 분위기 및 광 세기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 가역적 변형 입자.

3

제1항에 있어서,상기 제1 형태는 구형이고, 상기 제2 형태는 타원형 중심 단면을 가지는 비구형인 것인, 가역적 변형 입자.

4

제1항에 있어서,상기 제1 형태는 럭비공형이고, 상기 제2 형태는 볼록렌즈형인 것인, 가역적 변형 입자.

5

제1항에 있어서,상기 양친성 블록 공중합체는, PS-b-P4VP, PS-b-P2VP, PS-b-PMMA, PS-b-PB 및 PS-b-PDMS으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,가역적 변형 입자.

6

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7

제1항에 있어서,상기 제1 계면활성제는 상기 제1 단위 고분자를 포함하는 제1 영역과 결합하고,상기 제2 계면활성제는 상기 제2 단위 고분자를 포함하는 제2 영역과 결합하는 것인,가역적 변형 입자.

8

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9

제1항에 있어서,외부 조건에 따른 상기 가역적 변형 입자의 내부 모폴로지 변화 특성을 더 포함하는 것인,가역적 변형 입자.

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제9항에 있어서,상기 가역적 변형 입자의 제1 형태 및 제2 형태로의 가역적 변화는 상기 내부 모폴로지 변화 특성으로부터 기인하는 것인,가역적 변형 입자.

11

제9항에 있어서,상기 가역적 변형 입자의 내부 모폴로지 변화 특성은, 실린더(cylinder) 형상 타입 및 적층된 라멜라(stacked lamellae) 형상 타입, 상호 간의 가역적 변화를 포함하는 것인, 가역적 변형 입자.

12

제1항에 있어서,상기 제1 계면활성제는, 상기 가역적 변형 입자 중 30 내지 60 부피 분율을 차지하는 것인,가역적 변형 입자.

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양친성 블록 공중합체 및 제1 계면활성제를 포함하는 혼합 용액을 준비하는 단계;상기 혼합 용액에 제2 계면활성제 수용액을 혼합하여 입자 에멀젼을 형성하는 단계; 상기 입자 에멀젼을 건조시키는 단계; 및 상기 입자 에멀젼을 세정하여 과량의 제1 계면활성제, 제2 계면활성제 또는 둘 다를 제거하는 단계;를 포함하는 가역적 변형 입자를 제조하는 것이고,상기 가역적 변형 입자는, 제1항 내지 제5항, 제7항, 제9항 내지 제12항 중 어느 한 항의 가역적 변형입자인 것인, 가역적 변형 입자의 제조방법.

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