제11항에 있어서,상기 다공성 입자는 입자 내부 및 외부 표면에 다공성 구조를 포함하는 것이고,상기 다공성 구조 기공의 평균 지름은 50 nm 내지 700 nm 인 것인,블록 공중합체를 이용한 다공성 입자.

양친성 블록 공중합체 및 유기 용매를 포함하는 고분자 용액 및 계면활성제 수용액을 혼합하여, 상기 블록 공중합체를 포함하는 수중유(oil-in-water) 에멀젼 액적 제조 단계; 및상기 에멀젼 액적으로부터 유기용액의 유기 용매를 증발시켜 다공성 입자를 형성하는 증발 단계;를 포함하고, 상기 양친성 블록 공중합체 중 물과 친화력이 더 높은 단위 고분자 블록의 부피분율은 0.03 내지 0.5 인 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

제 1항에 있어서,상기 양친성 블록 공중합체는, PS-b-P4VP, PS-b-PEO, PB-b-PEO 및 PS-b-PNIPAM를 포함하는 군에서 선택되는 하나인 것인,블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

제1항에 있어서,상기 계면활성제는 SDS, PVA 또는 이 둘을 포함하는 것이고, 상기 계면활성제 수용액은 농도는 0.01 중량% 내지 1.0 중량% 이고,상기 고분자 용액 및 상기 계면활성제 수용액의 혼합 부피비는, 1 : 2 내지 1 : 100 인 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

제1항에 있어서,상기 유기 용매는 톨루엔(toluene), 클로로포름(chloroform), 자일렌(xylene), 클로로벤젠(chlorobenzene), 디클로로메테인(dichloromethane), 벤젠(benzee), 및 부탄올(butanol)을 포함하는 군에서 선택되는 하나 이상인 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

제1항에 있어서,상기 에멀젼 액적의 크기는 1 ㎛ 내지 100 ㎛ 인 것인,블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

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제1항에 있어서, 상기 양친성 블록 공중합체는 PS-b-P4VP 이고, 상기 유기 용매는 톨루엔이고, 상기 계면활성제는 SDS 이고, 상기 PS-b-P4VP 블록 공중합체의 P4VP 부피분율은 0.01 내지 0.07 이고 상기 SDS 농도는 계면활성제 수용액의 0.2 중량% 내지 1.0 중량% 이거나, 상기 PS-b-P4VP 블록 공중합체의 P4VP 부피분율은 0.12 내지 0.35 이고 상기 SDS 농도는 계면활성제 수용액의 0.07 중량% 내지 0.15 중량% 이고, 상기 다공성 입자는 입자 내부에만 다공성 구조를 포함하는 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

제1항에 있어서,상기 양친성 블록 공중합체는 PS-b-P4VP 이고, 상기 유기 용매는 톨루엔이고, 상기 계면활성제는 SDS 이고, 상기 PS-b-P4VP 블록 공중합체의 P4VP 부피분율은 0.10 내지 0.21 이고 상기 SDS 농도는 계면활성제 수용액의 0.2 중량% 내지 1.0 중량% 이고, 상기 다공성 입자는 입자 내부 및 외부 표면에 다공성 구조를 포함하는 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

제1항에 있어서,상기 양친성 블록 공중합체는 PS-b-P4VP 이고, 상기 유기 용매는 톨루엔이고, 상기 계면활성제는 SDS 이고, 상기 PS-b-P4VP 블록 공중합체의 P4VP 부피분율은 0.18 내지 0.25 이고 상기 SDS 농도는 계면활성제 수용액의 0.9 중량% 내지 1.0 중량% 이거나, 상기 PS-b-P4VP 블록 공중합체의 P4VP 부피분율은 0.25내지 0.35 이고 상기 SDS 농도는 계면활성제 수용액의 0.2 중량% 내지 1.0 중량% 이거나, 상기 PS-b-P4VP 블록 공중합체의 P4VP 부피분율은 0.3 내지 0.35 이고 상기 SDS 농도는 계면활성제 수용액의 0.06 중량% 내지 0.15 중량% 이고,상기 다공성 입자는 캡슐 형태인 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

제1항에 있어서,상기 양친성 블록 공중합체는 PS-b-P4VP 이고, 상기 유기 용매는 톨루엔이고, 상기 계면활성제는 SDS 이고, 상기 PS-b-P4VP 블록 공중합체의 P4VP 부피분율은 0.5 이상 이고 상기 SDS 농도는 계면활성제 수용액의 0.1 중량% 내지 1.0 중량% 이고, 상기 다공성 입자는 마이셀 형태인 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자 제조 방법.

양친성 블록 공중합체를 포함하고,제1항 내지 제5항, 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항의 제조방법에 의해 형성된 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자.

제11항에 있어서, 상기 다공성 입자는 입자 내부에만 다공성 구조를 포함하는 것이고,상기 다공성 구조 기공의 평균 지름은 5 nm 내지 20 nm 인 것인,블록 공중합체를 이용한 다공성 입자.

제11항에 있어서, 상기 다공성 입자는 입자 내부 및 외부에 다공성 구조를 포함하는 것이고, 상기 다공성 구조 기공의 평균 지름은 하기의 [수학식 1] 에 따르는 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자.[수학식 1]0.0715 M2 + 7.063M -50 003c# 평균 지름 (nm) 003c# 0.0715 M2 + 7.063M +150M: 블록 공중합체에 포함된 P4VP의 평균 분자량(M은 평균 지름(nm) 값이 양수가 되는 범위)

제11항에 있어서, 상기 다공성 입자는 캡슐 형태이고,상기 캡슐 입자의 평균 크기는 200 nm 내지 500 nm 인 것인,블록 공중합체를 이용한 다공성 입자.

제11항에 있어서,상기 다공성 입자는 마이셀 형태이고,상기 마이셀 입자의 평균 두께는 10 nm 내지 99 nm 인 것인, 블록 공중합체를 이용한 다공성 입자.

PS-b-P4VP, PS-b-PEO, PB-b-PEO 및 PS-b-PNIPAM를 포함하는 군에서 선택되는 블록 공중합체 및 SDS, PVA 또는 이 둘을 포함하고,입자 내부 및 외부 표면에 다공성 구조를 포함하고,상기 다공성 구조 기공의 평균 지름은 50 nm 내지 700 nm 인 것인,블록 공중합체를 이용한 다공성 입자.