(주)선재하이테크

OLED 디스플레이 및 반도체 공정의 고진공 챔버 내부에서 대면적 조사가 가능하고 소자 손상을 방지하는 최적 파장 적용과 출력 조절이 가능한 RF 플라즈마 방식의 바 타입 진공자외선 정전기 제거장치 개발

2023중소벤처기업부중소기업기술혁신개발
프로젝트 소개
본 과제는 OLED 디스플레이 및 반도체 공정에서 발생하는 정전기를 효과적으로 제거하기 위한 장치 개발에 관한 연구임. 특히, 고진공 상태의 챔버 내부에서 넓은 면적에 걸쳐 정전기를 제거하고, 소자가 손상되지 않도록 최적의 빛 파장을 사용하며, RF 플라즈마 방식을 활용하여 출력 조절이 가능한 바(bar) 형태의 진공자외선 정전기 제거장치를 개발하는 것이 목표임. 연구 목표는 고진공 챔버(10pa) 내부 설치용 바 타입 대면적 RF 플라즈마 방식 진공자외선 정전기 제거장치 개발임. OLED 소자 손상 방지 최적 파장대 적용 및 출력·주파수 가변 파워시스템 개발도 포함됨. 핵심 연구 내용은 대면적 VUV 정전기 제거장치 개발을 위한 벌브 및 생산 프로세스 정립, 방열구조 설계, 실시간 On/Off 제어시스템 개발임. 플라즈마 Source Engineering을 통해 벌브 형상, Gas 및 분압 설계, 플라즈마 밀도 및 균일도 향상, 파장대별 성능 실험을 수행함. RF Power generator 개발은 벌브 구동용 전원 회로, RF 주파수 및 출력 가변형 파워, 실시간 구동 판단 회로 개발로 구성됨. 기대 효과는 핵심기술 경쟁력 강화 및 대면적 정전기 제거장치 실용화를 통한 시장의 Game changer 역할 수행임. RF 플라즈마 방식의 대면적 바형 VUV 개발로 수출 영업력 강화 및 기술 격차 확보에 기여할 것으로 전망됨.
정전기 제거장치최적 파장RF 플라즈마 발전기진공자외선바형 대면적벌브electrostatic removal deviceOptimum wavelengthRF Plasma generatorVacuum ultraviolet raysB-shaped large area bulb
참여형태
주관
사업명
중소기업기술혁신개발
부처명
중소벤처기업부
주관기관명
(주)선재하이테크
공동/위탁수행기관명
유니온시스템, 전북대학
과제 수행연도
2023
과제 수행기간
2023.07.17 ~ 2027.07.16
과제 고유번호
1425179512
연구 개발단계
개발연구
연구비
총연구비
280,380,000
정부지원연구개발비
224,000,000
위탁연구비
45,500,000
민간연구비
56,380,000
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
주관(주)선재하이테크중소기업부산광역시
공동/위탁기관 정보2건
공동/위탁수행기관명연구수행주체참여형태공동연구비 수입금액 (원)공동연구비 지출금액 (원)
공동유니온시스템중소기업연구·기술개발1,380,00045,500,000
위탁전북대학대학---
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL