리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발

2022산업통상자원부전자부품산업기술개발(R&D)
프로젝트 소개
본 과제는 포토리소그래피 패터닝 기술을 OLED 화소 형성에 적용해, 고해상도·고내구 패턴 공정을 실현하기 위한 연구임. 연구 목표는 micrometer 패턴 정밀도 10/10(10μm급), 소자효율저하 20% 이하, 소자수명감소율 50% 이하 달성임. 핵심 연구 내용은 화학적 침해성이 억제된 포토리소그래피용 고불소화 PR소재 최적화, ETL 전자수송층의 화학 구조 최적화, PDL 해상도 향상 및 표면처리, 포토리소그래피 패턴화소 형성 공정 확립, 레퍼런스·패턴 소자 효율/수명 평가임. 기대 효과는 OLED 화소 형성공정 적용 타당성 검증 및 고해상도 포토레지스트 시스템 확보로 연관 산업 확장 가능성 제시임.
유기발광 디스플레이포토리소그래피화소형성고해상도포토레지스트organic lightemitting device (OLED)photolithographypixel patterninghigh resolutionphotoresist
참여형태
주관
사업명
전자부품산업기술개발(R&D)
부처명
산업통상자원부
주관기관명
인하대학
공동/위탁수행기관명
한국전자기술연구원, 엘티소재(주), 서울시립대학, 성균관대학, 충남대학
과제 수행연도
2022
과제 수행기간
2020.07.01 ~ 2024.12.31
과제 고유번호
1415178256
연구 개발단계
개발연구
연구비
총연구비
1,228,280,000 원
정부지원연구개발비
1,000,000,000 원
위탁연구비
0 원
민간연구비
228,280,000 원
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
주관인하대학대학기타
공동/위탁기관 정보5건
공동/위탁수행기관명연구수행주체참여형태공동연구비 수입금액 (원)공동연구비 지출금액 (원)
공동한국전자기술연구원기타연구·기술개발-170,000,000
공동엘티소재(주)중견기업연구·기술개발45,000,000190,000,000
공동서울시립대학대학연구·기술개발-170,000,000
공동성균관대학대학연구·기술개발-130,000,000
공동충남대학대학연구·기술개발-60,000,000
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL