프로젝트 소개
본 과제는 CVD 없이 annealing으로 2차원 소재(MoS2, WS2 등)를 얻고, jet printing(ink jet·EHD jet)으로 DOD(drop-on-demand) pattern과 적층 pattern을 만드는 용액공정 기반 연구임.
연구목표는 CVD-free 용액 합성 원천기술, Jet printing의 DOD patterning 및 초박막·다층박막 제어, doping 및 band gap engineering을 통한 반도체 특성 확보, 2D+CNT·Ag NW·Cu NW 복합 전극과 soluble gate insulator로 all-print 2D TFT 구현임. 기대효과는 2D 반도체 성장 메커니즘 규명과 대면적·전공정 printed 전자소자 기술, 원천기술·특허 및 차세대 디스플레이/반도체 산업 기여로 정리됨.