프로젝트 소개
본 과제는 반도체 식각 공정 시 발생하는 플라즈마로부터 장비 부품을 보호하기 위해, Y계 내플라즈마 소재를 대형 표면에 적용하는 PVD 코팅 기술을 개발하는 연구임. 이 기술은 반도체 제조 장비의 핵심 부품인 대면적 윈도우 등의 내구성을 높여 생산성을 향상시키는 데 기여함.
연구 목표는 PVD 기술을 활용하여 오염 입자 저감형 나노입자 고치밀질 코팅소재 및 내플라즈마성 Y계 산화물 표면 개질 기술을 개발하는 데 있음. 특히, 전자빔 증발 공정을 이용한 Y계 내플라즈마 나노구조 코팅 제조 기술을 개발하고, YOF 및 YAG 결정상 박막 증착 공정 조건을 확립하여 반도체 플라즈마 식각 장비용 대면적 윈도우에 적용 가능한 공정 기술을 확보하는 것이 최종 목표임. 핵심 연구 내용은 4차년도에 200mm 이상 대형 제품에 대한 YOF 및 YAG 코팅 증착 조건과 특성(두께, 균일도) 확보임. 5차년도에는 450mm 이상 YOF 코팅 및 직경 500mm 이상 YAG계 코팅 대형 실제품(dielectric window) 제작 기술을 확보하고 양산 공정 기술 및 물성 평가를 진행함. 기대 효과는 차세대 식각 공정 챔버에 적용 가능한 코팅 기술을 확보하여 반도체 제조 생산성 및 양산성 향상에 기여하는 것임. 또한, 고가 수입 제품 대체 및 지식재산권 확보를 통해 국내 반도체 산업 경쟁력을 강화할 것으로 전망됨.