프로젝트 소개
본 과제는 반도체 제조 과정에서 핵심적인 재료인 포토레지스트를 블랭크 또는 포토마스크 위에 정밀하게 도포하는 장비를 국산화하여 개발하는 연구임. 이 장비는 반도체 회로의 미세 패턴을 형성하는 데 필수적인 공정 기술 확보를 목표로 함.
연구 목표는 반도체 블랭크/포토마스크 제조용 포토레지스트 도포 장비 개발 및 소재/부품/장비 국산화 달성에 있음. 핵심 연구 내용은 1차년도에 스핀 타입 공정 최적화를 위한 Spindle Unit, System Dimension, 기판고정 방식, Spin Bowl 구조, 최적 노즐 방식 등 하드웨어 기구 설계 연구 및 PLC, PC 기반의 제어 소프트웨어 개발, 사용자 편의성(GUI) 프로그램 연구임. 2차년도에는 하드웨어 부품 품질 평가, 기구 조립, 장비 시스템 구동을 위한 소프트웨어 제어 및 전체 시스템 평가를 수행함. 기대 효과는 국내 반도체 블랭크/포토마스크 제조용 장비 분야의 글로벌 기술경쟁력 확보 및 미세패턴 구현을 위한 리소그래피 공정 장비 기술 발전에 기여함. 특히, 해외 의존도가 높은 시장에서 국내 최초 국산화를 달성하여 반도체 핵심 부품소재 산업의 수급력 향상과 제조장비 국산화율 제고에 크게 이바지할 것으로 전망됨.