리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발

2023산업통상자원부전자부품산업기술개발(R&D)
프로젝트 소개
본 과제는 OLED 패널 제작을 위한 포토리소그래피 공정 소재·기판·패턴 구현·성능 평가 플랫폼을 개발하는 연구임. 연구목표는 화학적 침해성이 억제된 포토리소그래피 공정용 소재 확보, 내구성을 지닌 유기발광소재 확보, OLED화소 형성을 위한 기판소재 확보, 포토리소그래피 패턴화소 형성, 레퍼런스 소자 및 패턴 소자의 성능/수명 평가 플랫폼 구축임. 핵심 연구내용은 불소계·수계 용제 선정과 고불소화 PR소재 설계, 고불소화 증착형 보호층 개념, ETL 재료 개발, 10 μm급 PDL 제작, 인광녹색 패턴 Line/Space 10μm/10μm 구현, 5000 nit 기준 패턴소자 효율저하 50% 이내 및 수명평가 수행임. 기대효과는 3년 연구 기반 마련과 참여기관 협력 플랫폼 구축, 목표 달성을 위한 문제점 파악 및 소자 수명 확보 방안의 사전 검토임.
유기발광 디스플레이포토리소그래피화소형성고해상도포토레지스트organic lightemitting device (OLED)photolithographypixel patterninghigh resolutionphotoresist
참여형태
주관
사업명
전자부품산업기술개발(R&D)
부처명
산업통상자원부
주관기관명
인하대학
공동/위탁수행기관명
성균관대학, 충남대학, 엘티소재(주), 삼성디스플레이(주), 엘지디스플레이(주), 한국전자기술연구원, 서울시립대학
과제 수행연도
2023
과제 수행기간
2020.07.01 ~ 2024.12.31
과제 고유번호
1415186121
연구 개발단계
개발연구
연구비
총연구비
1,265,880,000 원
정부지원연구개발비
1,000,000,000 원
위탁연구비
0 원
민간연구비
265,880,000 원
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
주관인하대학대학인천광역시
공동/위탁기관 정보7건
공동/위탁수행기관명연구수행주체참여형태공동연구비 수입금액 (원)공동연구비 지출금액 (원)
공동성균관대학대학연구·기술개발-220,000,000
공동충남대학대학연구·기술개발-70,000,000
공동엘티소재(주)중견기업연구·기술개발45,000,000160,000,000
공동삼성디스플레이(주)대기업연구·기술개발--
공동엘지디스플레이(주)대기업연구·기술개발2,000,0005,000,000
공동한국전자기술연구원기타연구·기술개발-150,000,000
공동서울시립대학대학연구·기술개발-150,000,000
사업화 정보1건
성과발생년도사업화내용사업화형태기술이전유형업체명당해년도매출액
2023리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발기술보유자의 직접사업화_기존업체-상품화-엘티소재-
기술료1건
성과발생년도기술실시계약명연구성과 소유 기관명당해연도 기술료정부납부 기술료기술료 실시 대상 국가
2023고불소계 용제로 가공이 가능한 고불서화 포지티브형 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법 외 1건비영리법인(대학/출연연)5,000,000-대한민국
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL