리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발

2021산업통상자원부전자부품산업기술개발(R&D)
프로젝트 소개
본 과제는 포토리소그래피로 OLED화소를 고해상도로 만들되, 화학적 침해성과 수명 저하를 억제하기 위한 소재·공정·평가 플랫폼을 개발하는 연구임. 연구목표는 패턴 정밀도 10/10 (line/space), 소자효율저하 30 이하, 소자수명감소율 80 이하 달성에 있음. 핵심 연구내용은 고불소화 PR소재(포지티브형 고불소화 PR), 고불소화 증착형 보호층, Fluorine 계열 ETL 수송층 도입, PDL 표면처리 및 10 μm급 화소 구조 설계/마스크 제작, 보호층/친수성 PR 제거 고불소계 용매 Strip 조건 구축, 레퍼런스 소자-패턴 소자 성능·수명 평가 최적화 수행임. 기대효과는 10 마이크로 미터 급 고해상도 OLED화소 형성 기술 확보 및 소재·공정 문제 극복 시도 구체화로 2단계 참여 준비 기반 마련임.
유기발광 디스플레이포토리소그래피화소형성고해상도포토레지스트organic lightemitting device (OLED)photolithographypixel patterninghigh resolutionphotoresist
참여형태
주관
사업명
전자부품산업기술개발(R&D)
부처명
산업통상자원부
주관기관명
인하대학
공동/위탁수행기관명
엘티소재(주), 서울시립대학, 한국전자기술연구원, 성균관대학, 충남대학, 엘티소재(주), 서울시립대학, 한국전자기술연구원, 성균관대학, 충남대학
과제 수행연도
2021
과제 수행기간
2020.07.01 ~ 2024.12.31
과제 고유번호
1415173755
연구 개발단계
응용연구
연구비
총연구비
1,176,460,000 원
정부지원연구개발비
969,000,000 원
위탁연구비
0 원
민간연구비
207,460,000 원
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
주관인하대학대학기타
공동/위탁기관 정보10건
공동/위탁수행기관명연구수행주체참여형태공동연구비 수입금액 (원)공동연구비 지출금액 (원)
공동엘티소재(주)중견기업연구·기술개발45,000,000190,000,000
공동서울시립대학대학연구·기술개발-165,000,000
공동한국전자기술연구원기타연구·기술개발-150,000,000
공동성균관대학대학연구·기술개발-130,000,000
공동충남대학대학연구·기술개발-60,000,000
공동엘티소재(주)중견기업연구·기술개발45,000,000190,000,000
공동서울시립대학대학연구·기술개발-165,000,000
공동한국전자기술연구원기타연구·기술개발-150,000,000
공동성균관대학대학연구·기술개발-130,000,000
공동충남대학대학연구·기술개발-60,000,000
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL