프로젝트 소개
본 과제는 반도체 공장 등 초정밀 환경에 필수적인 클린룸에서 공기 중의 가스상 분자형 오염물(AMCs)을 효과적으로 제거하는 케미컬 필터를 개발하는 연구임.
연구 목표는 다공성 소재의 기공 구조 제어 및 AMCs 선택적 흡착을 위한 촉매제 첨착 가공 기술 개발을 통해 AMCs 제거 효율 85%(비정전 65%) 이상의 케미컬 필터용 여재 및 90% 이상의 케미컬 필터를 개발하는 것임. 핵심 연구 내용은 비표면적 2,000㎡/g 이상의 활성탄 및 습기에 강한 첨착 활성탄 연구, 1m³ 챔버에서의 가스별 효율 및 누적량 평가, 그리고 1층 구조 올레핀계 습식 부직포 지지체 제작을 포함함. 또한, Mini-Pleat 타입의 케미컬 필터 개발 및 활성탄 이탈 방지 기술 구현이 포함됨. 기대 효과는 국내외 반도체 케미컬 필터 기술 수준을 세계 동등 이상으로 향상시키고, AMCs 제거 효율 85% 이상의 여재 및 90% 이상의 필터 개발을 통해 산업 경쟁력 강화 및 신규 일자리 창출에 기여함.