(주)지피

GaN 전력소자의 고방열 Diamond 패키지 기술 개발

2021산업통상자원부산업기술국제협력(R&D)
프로젝트 소개
본 과제는 차세대 전력 반도체로 주목받는 GaN(질화갈륨) 전력소자의 발열 문제를 해결하여 성능과 신뢰성을 높이기 위한 기술 개발임. GaN 전력소자는 데이터센터, 레이더, 전기차 등 다양한 분야에서 에너지 효율을 높이는 데 중요하지만, 작동 시 발생하는 높은 열이 소자의 수명과 성능을 저하시키는 주요 원인임. 이에 열전도율이 매우 높은 다이아몬드(Diamond)를 이용한 패키지 기술을 개발하여 GaN 소자의 열을 효과적으로 관리하는 것을 목표로 함. 연구 목표는 패키지용 고방열 Poly-Crystal Diamond(PCD) 기판 개발, Bonding Pad Over Active(BPOA) 구조 GaN 전력소자 개발, 그리고 GaN-Diamond Flip-Chip 패키지 개발임. 핵심 연구 내용은 웨이퍼 레벨 PCD 개발 및 표면 Polishing, PCD 열전도 측정 기술 확보를 통한 고방열 PCD 기판 개발임. 또한, 고전류 GaN 전력소자 설계 및 구현, GaN Flip-Chip 패키지 핵심 공정 기술 확보를 통해 BPOA 구조 GaN 전력소자를 개발함. 마지막으로 GaN Flip-chip 본딩패드 설계 및 제작, Diamond Flip-Chip 범프 형성 및 핵심 공정 기술 확보, GaN-on-Diamond 전력소자 패키징 및 신뢰성 평가 기술 개발을 통해 GaN-Diamond Flip-Chip 패키지를 완성함. 기대 효과는 GaN 전력반도체 개발을 통해 데이터센터, 레이더, 자동차 등 산업 전반의 저전력 고효율 그린반도체 산업을 주도하고, GaN 소자의 열을 150°C 미만으로 억제하여 소자 및 패키지 모듈의 신뢰성을 향상시키는 데 있음. 또한, 개발된 Diamond 패키지 기술을 GaN RF, LED, Si CMOS 소자 등 방열이 필요한 다양한 소자 패키지에 응용하여 국내 반도체 산업의 구조 개선 및 무역 수지 개선에 크게 기여할 것으로 전망됨.
플립칩본딩비피오에이다이아몬드전력반도체질화갈륨FlipChip BondingBonding Pad Over ActiveDiamondPower DeviceGaN
참여형태
주관
사업명
산업기술국제협력(R&D)
부처명
산업통상자원부
주관기관명
(주)지피
공동/위탁수행기관명
한국전자통신연구원, 한국전자통신연구원
과제 수행연도
2021
과제 수행기간
2019.10.01 ~ 2021.09.30
과제 고유번호
1415177790
연구 개발단계
응용연구
연구비
총연구비
129,375,000
정부지원연구개발비
115,000,000
위탁연구비
0
민간연구비
14,375,000
주관/협동기관 정보
주관/협동수행기관명연구수행주체지역
주관(주)지피중소기업대전광역시
공동/위탁기관 정보2건
공동/위탁수행기관명연구수행주체참여형태공동연구비 수입금액 (원)공동연구비 지출금액 (원)
공동한국전자통신연구원출연연구소기술이전 및 사업화--
공동한국전자통신연구원출연연구소기술이전 및 사업화--
사업화 정보1건
성과발생년도사업화내용사업화형태기술이전유형업체명당해년도매출액
2021GaN 전력소자의 고방열 Diamond 패키지 기술 개발기술보유자의 직접사업화_기존업체-상품화-주식회사 지피-
기술료1건
성과발생년도기술실시계약명연구성과 소유 기관명당해연도 기술료정부납부 기술료기술료 실시 대상 국가
2022GaN 전력소자의 고방열 Diamond 패키지 기술 개발영리법인16,903,122-대한민국
과제 기반 국내외 특허0건
출원/등록 기관발명의 명칭출원일자출원국가출원번호등록일자등록번호
과제 기반 SCI(E) 논문0건
논문명학술지명DOI/URL