안지훈 교수 연구실
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인용수 0
·2026
Atomic layer deposition of MoO2 using a tetravalent precursor for template-driven rutile TiO2 growth in DRAM capacitors
Yoonchul Shin, Yeon-Ji Jeon, Ji Hwan Kim, Chan-Bin Hong, Chang Mo Yoon, Dongwon Kwon, Se Yun Kim, Ji-Hoon Ahn
IF 6.9 (2026) Applied Surface Science
키워드
Atomic layer depositionX-ray photoelectron spectroscopyDielectricRutileMonoclinic crystal systemAnataseHigh-κ dielectricAnnealing (glass)Thin film
타입
article
IF / 인용수
6.9 / 0
원문
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2026.166101
게재 연도
2026
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