Highly area-selective atomic layer deposition of device-quality Hf1-xZrxO2 thin films through catalytic local activation | 안지훈 교수 연구실 | 한양대학교 차세대반도체융합공학부

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논문

구성원

article|

인용수 13

·2024

Highly area-selective atomic layer deposition of device-quality Hf1-xZrxO2 thin films through catalytic local activation

Hyo‐Bae Kim, Jeong‐Min Lee, Dougyong Sung, Ji‐Hoon Ahn, Woo‐Hee Kim

IF 13.2 (2024) Chemical Engineering Journal

키워드

Atomic layer depositionCatalysisLayer (electronics)Deposition (geology)Materials scienceThin filmChemical engineeringAtomic layer epitaxyNanotechnologyChemistry

타입

article

IF / 인용수

13.2 / 13

원문

https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.150760

게재 연도

2024

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