정규원 교수 연구실
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ALD 공정에 따른 HfZrO2 페로브스카이트(ferroelectric) 스위칭 신뢰성 평가 연구

Reliability Study of Ferroelectric HfZrO2 Switching Dynamics Based on ALD Processing

연구 내용

열 ALD와 플라즈마 향상 ALD로 형성된 HfZrO2의 사이클링 응력 하 페로브스카이트 도메인 벽 운동 및 결함 형성 차이를 비교 분석하는 연구

정규원 연구실은 ALD로 형성한 HfZrO2의 페로브스카이트 스위칭 동역학을 사이클링 스트레스 조건에서 비교 분석합니다. 열 ALD와 plasma-enhanced ALD 방식에 따른 결함 및 oxygen vacancy 형성 속도 차이가 도메인 벽 운동과 전기적 전압 요구 특성에 미치는 영향을 규명합니다. 또한 XPS 분석과 피로(fatigue) 속도 및 스위칭 속도 분해를 통해, creep-flow 전이 구간의 activation energy 및 전계 변화 양상을 해석합니다. 공정 선택이 신뢰성 파라미터에 미치는 영향을 정량적으로 연결하는 접근을 보유하고 있습니다.

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연구 흐름

2025년 연구에서는 ALD 증착 방식(thermal ALD vs plasma-enhanced ALD)을 달리해 HfZrO2를 제작하고, 전기 사이클링 응력 하에서 ferroelectric domain wall motion과 스위칭 속도 저하 양상을 비교하는 연구를 수행했습니다. 이후 fatigue rate 및 switching speed 분석으로 activation energy 차이를 도출하고, XPS 기반 산소 관련 결함 형성 속도와의 연계를 확인했습니다. 동시에 dynamic domain phase 관점에서 사이클링 스트레스 조건에 따른 전계 요구 변화 구간을 구분하여, 어느 구간이 공정 결함에 민감한지 해석하는 방향으로 연구를 정리했습니다.

활용 가능성

활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.

  • ALD 공정 선택 가이드라인
  • HfZrO2 기반 비휘발성 메모리 신뢰성 평가
  • ferroelectric 피로 메커니즘 해석
  • domain wall 동역학 기반 소자 설계
  • oxygen vacancy 결함 엔지니어링
  • 사이클링 응력 기반 스위칭 성능 예측
  • 강건한 ferroelectric capacitor 공정 검증
  • 공정-신뢰성 상관 데이터베이스 구축
  • 6인치 CMOS 설계 검증 플랫폼 활용
  • 공정 설계키트 기반 MPW 테스트 구조

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구분

제목

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Comparative analysis of ferroelectric domain wall motion under cycling stress of HfZrO2 fabricated by thermal and plasma-enhanced atomic layer depositions

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