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연구 분야
프로젝트
논문
구성원
article|
인용수 2
·2025
Recent Advances in Hafnium Oxide-Based Ferroelectric Thin-Film Transistors with Oxide Semiconductor Channels
Jae Joon Kim, Joonyong Kim, Heejin Choi, Dong Hee Han, Hyun Woo Jeong, Young H. Lee, Min Hyuk Park
IF 2.6Electronic Materials Letters
키워드
FerroelectricityTransistorNeuromorphic engineeringNon-volatile memoryHafniumOxideSemiconductorLeakage (economics)Memristor
타입
article
IF / 인용수
2.6 / 2
게재 연도
2025

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