연구 영역

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연구 분야

기술 도입 효과 및 상용화 단계

경제적/시장 적용 및 기대 효과

1
CMOS 공정 개발 및 실리콘 MOSFET 제작
  • 자체적인 CMOS 공정 및 소자 제작 기술을 보유하여, 특정 산업용(예: 모터 드라이브, 전력 변환기) 및 차량용(예: EV 인버터) 애플리케이션에 최적화된 맞춤형 MOSFET 시제품 제작이 가능합니다.
  • 이는 양산 전 기술 검증 및 성능 최적화 단계를 가속화하여 상용화 리스크를 줄이는 효과를 제공합니다.

전기차 및 신재생에너지 기술의 확산은 고효율 전력 반도체 시장의 성장을 견인하고 있습니다. 본 연구실과의 협력은 이러한 고성장 시장에 진입하고 기술 경쟁력을 확보하는 데 기여할 것입니다.

2
실리콘 MOSFET의 TCAD 시뮬레이션
  • TCAD 시뮬레이션을 통해 실제 웨이퍼 제작 전에 소자의 성능을 가상으로 검증함으로써 개발 비용과 시간을 획기적으로 절감할 수 있습니다.
  • 공정-설계 공동 최적화(DTCO) 기술은 제품 개발 초기 단계에서 수율과 성능을 극대화하는 최적의 기술 로드맵을 수립하는 데 활용될 수 있습니다.

전 세계 TCAD 시장은 2033년까지 34억 달러 규모로 성장할 전망입니다. TCAD 기술 도입은 반도체 R&D 생산성을 높이고, 복잡한 공정 문제를 해결하여 기업의 장기적인 기술 경쟁력을 강화하는 핵심 요소입니다.

3
실리콘 소자의 전기적 특성 분석
  • 개발된 소자의 성능, 효율, 내구성 등 핵심 지표에 대한 객관적이고 정밀한 분석 데이터를 제공하여 제품의 신뢰성을 확보하고 품질 인증 과정에 활용할 수 있습니다.
  • 이는 특히 고신뢰성이 요구되는 자동차, 산업, 통신 분야에서 기술적 우위를 점하는 데 필수적입니다.

에너지 효율이 높은 전력반도체는 시스템 전체의 에너지 손실을 줄여 직접적인 운영 비용 절감 효과를 가져옵니다. 본 연구실의 특성 분석 역량은 이러한 고효율 제품 개발을 지원하여 시장에서 경제적 가치를 창출하는 데 기여할 수 있습니다.

대표 연구 분야

연구실에서 최근에 진행되고 있는 관심 연구 분야

1

I. CMOS Process Development

2

III. TCAD Simulation of Silicon MOSFETs

3

II. Silicon MOSFET Fabrication

4

IV. Electrical Characterization of Silicon Devices