Ag2O 박막은 우수한 열적 안정성, 강한 전기적 특성 및 안정적인 구조로 인해 포토디텍터, 포토촉매, 가스 센서 등 다양한 장치에 적용되어 왔다. 그러나 은 산화물의 다양한 상(phase)이 존재하므로, 일반적인 증착 시스템을 사용하여 단일 상 Ag2O 박막을 제조하는 것은 어렵다. 본 연구에서는 마주보는 타깃 스퍼터링(facing-target sputtering, FTS) 시스템을 이용하여 서로 다른 작업 압력과 O2 가스 유량에서 Ag2O 박막을 유리 기판 위에 증착하였다. 작업 압력과 O2 가스 유량을 최적화한 후, 결정학적 특성을 향상시키기 위해 100~400 °C 범위의 서로 다른 온도에서 박막을 후열처리하였다. 제작 직후의 Ag2O 박막에 대한 X선 회절(X-ray diffraction) 패턴은 Ag2O의 단일 상이 존재함을 나타냈으며, 자외선–가시광선(ultraviolet–visible, UV–vis) 스펙트럼 분석은 가시광 영역에서 65%의 투과도를 보였다. 최적의 작업 압력과 O2 가스 유량은 각각 4 mTorr와 3.4 sccm로 결정되었다. 마지막으로 후열처리 온도가 박막에 미치는 영향을 조사하였으며, 300 °C에서 Ag2O 피크의 강도가 높아 이 온도를 최적의 후열처리 온도로 제시하였다.

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