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논문·특허
과제
구성원
Article|
·
인용수 6
·2018
Detailed analysis and performance limiting mechanism of Si delta-doped GaAs tunnel diode grown by MBE
Seok‐Jin Kang, Gun Wu Ju, Jung‐Wook Min, Dong‐Seon Lee, Yong Tak Lee, Hyo Jin Kim, Kwangwook Park
IF 1.471 (2018) Japanese Journal of Applied Physics
초록

Si 델타 도핑 기법을 사용하여 고성능 GaAs 터널 다이오드(TD)를 제작하였다. GaAs TD는 피크 터널 전류 밀도 2,735 A/cm2 및 낮은 비저항 1.46 × 10−4 Ω·cm2를 나타냈다. 그러나 Si 델타 도핑의 양이 일정 한도를 초과하면 GaAs TD의 성능이 저하되었으며, 이러한 현상은 다른 곳에서는 드물게 보고되었다. 다양한 Si 델타 도핑 양을 갖는 GaAs TD에 대한 상세 분석과 수치 시뮬레이션을 통해 Si의 양성(ам포테릭) 거동이 성능 한도를 지배함이 입증되었다. Si 델타 도핑을 정밀하게 제어한 GaAs TD는 최신형 탠덤 태양전지 응용에 적합하다.

*본 초록은 AI를 통해 원문을 번역한 내용입니다. 정확한 내용은 하기 원문에서 확인해주세요.

키워드
DopingMaterials scienceDiodeOptoelectronicsTunnel diodeLimitingDeltaSiliconElectrical resistivity and conductivityAnalytical Chemistry (journal)
타입
Article
IF / 인용수
1.471 / 6
게재 연도
2018