) 는 고진공 전자현미경 내부에서 “나노 스케일 반응기”로서 널리 사용된다. 그러나 캡슐화로 인한 높은 배경 산란(통상 ~100 나노미터)이 in situ 성능에 대한 성능지표를 심각하게 제한함에 따라, 해당 분야는 정체 상태에 놓여 있다. 이러한 불리한 영향은 특히 가스 셀에서 두드러지는데, 이는 봉지용 막이 전체 산란을 지배하여 의미 있는 신호를 모두 흐리게 만들고 분해능을 제한하기 때문이다. 본 연구에서는 배면 지지(back-supporting) 전략을 채택함으로써, 구조적 탄력성은 유지하면서 캡슐화 막을 실질적으로 감소시킬 수 있으며, 그 크기를 ~10 나노미터까지 낮출 수 있음을 보여준다. 또한, 체계적인 가스 셀 연구는 지금까지의 최고 수준의 공간 분해능과 스펙트럼 가시성에 대한 성능지표에서 이점을 입증한다. 더 나아가, 이러한 전략은 다른 유형의 마이크로칩에도 폭넓게 적용될 수 있어 in situ/operando 분야를 넘어서는 더 큰 파급효과를 가질 것으로 기대된다.

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