마이크로 디스플레이 응용을 위한 반도체 집적 공정 방식의 양자점 고해상도 전계발광 프론트플레인 핵심기술 개발
- FWHM 35 nm 이하, 공정 전/후 발광효율 20 % 이하 감소- 기상증착 기반 전무기 QD EL 소자 외부 양자효율 10%- QD EL 소자 최대 휘도 50,000 cd/m2 (적/녹색 기준)- 전무기 전계발광 소자 수명 t90 ≥100 h @ 1,000 cd/m2- 200 ℃ 이하의 공정온도 및 비산소 반응물 도입된 다성분계 산화물 ALD 공정...
양자점
원자층증착법
발광다이오드
패터닝
전무기
2
2025년 3월-2029년 12월
|1,125,000,000원
초실감 디스플레이 실용화를 위한 초고굴절 투명 나노광학소재 및 메타표면 대량 생산 플랫폼 기술 개발
초고굴절 투명 나노광학소재(n≥2.5 @ R,G,B//T≥90% @ visible) 개발 및 이를 활용하여 초실감 마이크로 디스플레이에 적용 가능한 초박형 메타표면의 대면적/대량생산을 위한 제조기술 플랫폼 개발
메타렌즈
초고굴절 소재
투명 소재
나노임프린트
초실감 디스플레이
3
2025년 3월-2029년 12월
|1,441,730,000원
초실감 디스플레이 실용화를 위한 초고굴절 투명 나노광학소재 및 메타표면 대량 생산 플랫폼 기술 개발
초고굴절 투명 나노광학소재(n≥2.5 @ R,G,B//T≥90% @ visible) 개발 및 이를 활용하여 초실감 마이크로 디스플레이에 적용 가능한 초박형 메타표면의 대면적/대량생산을 위한 제조기술 플랫폼 개발
메타렌즈
초고굴절 소재
투명 소재
나노임프린트
초실감 디스플레이
4
2025년 2월-2030년 2월
|6,070,274,000원
유기발광디스플레이전문인력양성
ㅇ 최종목표 : 유기발광 디스플레이 산업 혁신을 선도할 창의적이고 융합적인 연구인력 양성ㅇ 추진방향 : 유기발광 디스플레이 산업의 혁신을 위해 산학 맞춤교육, 글로벌 협력을 통한 현장 전문 실무인재 양성
유기발광디스플레이이
전문인력양성사업
소재부품
공정장비
패널융복합
5
2025년 2월-2026년 2월
|215,407,000원
반도체 집적 공정 방식의 전무기 고휘도 양자점 전계발광 디스플레이 소자 제작을 위한 일체형 챔버 구축
● LED 소자내 초고해상도 (5000 PPI급) 친환경 양자점 광리소그래피 기반 패터닝● QD 디스플레이 적용을 위한 다성분계 초주기 방식의 고품질 전하수송층 개발→ 최종 연구의 목표치- FWHM 35 nm 이하, 공정 전/후 발광효율 20 % 이하 감소, 5000 PPI급 고해상도 픽셀 개발- 기상증착 기반 전무기 QD EL 소자 외부 양자효율 10%-...