ALD-enabled micro-patterning and QD electroluminescent display device fabrication
연구 내용
원자층증착법과 패터닝 공정을 이용해 양자점 발광층의 구조와 계면을 제어하고, 전계발광 디스플레이 소자의 고휘도·고안정성을 구현하는 연구
양자점 기반 디스플레이의 구현을 위해 원자층증착법(Atomic Layer Deposition, ALD), 박막 증착, 패터닝 공정을 연계한 소자 제작 기술을 확보하고 있습니다. 특히 NiO 계열의 무기 정공 수송층에서 도핑과 계면 에너지 정렬을 조절하여 주입 효율을 개선하고, ALD 기반 초박막 배리어로 열처리 중 이온 이동을 억제하는 방식으로 계면 열·화학 안정성을 확보합니다. 또한 양자점 적층 공정에 ALD를 적용하여 다층 발광층의 광학적 손실을 제어하는 방향으로 디스플레이 적용성을 강화합니다.
관련 연구 성과
관련 논문
1편
관련 특허
2건
관련 프로젝트
7건
연구 흐름
초기에는 양자점 발광층의 디스플레이 적용을 위해 원자층증착 기반 박막 공정과 계면 안정화 조건을 정립하는 연구를 수행했습니다. 이후 무기 정공 수송층의 전기적 특성 향상을 위해 도핑 및 박막 조성 제어를 적용하고, ALD로 초박막 확산 차단층을 형성하여 열처리 후 계면 무결성을 유지하는 방향으로 확장했습니다. 최근에는 양자점 적층 구조에서 발광층의 다층화 공정과 광학 손실 억제 기작을 함께 고려하여 소자 성능과 공정 재현성을 동시에 확보하는 연구 궤적을 형성하고 있습니다.
활용 가능성
활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.
관련 논문
구분
제목
Mg-Doped NiO Hole Transport Layers with Ultrathin ALD-MgO Diffusion Barriers for All-Inorganic Quantum Dot Light-Emitting Diodes
관련 특허
구분
제목
금속 산화물 나노 입자의 제조 방법, 이에 의해 제조된 금속 산화물 나노 입자 및 이를 포함하는 표시 장치
양자점 적층 방법, 이를 이용한 백색 발광 다이오드의 제조 방법 및 장치
관련 프로젝트
구분
제목
마이크로 디스플레이 응용을 위한 반도체 집적 공정 방식의 양자점 고해상도 전계발광 프론트플레인 핵심기술 개발
반도체 집적 공정 방식의 전무기 고휘도 양자점 전계발광 디스플레이 소자 제작을 위한 일체형 챔버 구축
6000ppi 급 이상 초실감 QLEDoS 구현을 위한 포토패터너블 RGB 독립화소 프론트플레인 원천기술 개발
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기상 리간드 치환을 통한 고성능 QD 자발광 디스플레이 개발
원자층증착법을 활용한 미세 패터닝된 양자점 전계발광 소자 개발