윤성민 교수 연구실
The 4th Korean International Semiconductor Conference & Exhibition on Manufacturing Technology
Impact of HfO2 Spacer Engineering for High-Performance Ultra-Short Channel InGaZnO Vertical Thin-Film Transistors
구분
국외
국가
대한민국
컨퍼런스명
The 4th Korean International Semiconductor Conference & Exhibition on Manufacturing Technology
발표 제목
Impact of HfO2 Spacer Engineering for High-Performance Ultra-Short Channel InGaZnO Vertical Thin-Film Transistors
기관명
한국반도체디스플레이기술학회
참여 연도
2025
상세 설명
한국반도체디스플레이기술학회