|김승현 교수 연구실
홈
연구 영역
기본 정보
논문·특허
과제
구성원
Article|
·
인용수 2
·2022
Effect of the addition of O2 on copper etching using high density plasma of acetylacetonate/Ar
Sung Yong Park, Eun Taek Lim, Seung‐Hyun Kim, Chee Won Chung
IF 4.1 (2022) Materials Science in Semiconductor Processing
키워드
Materials scienceCopperEtching (microfabrication)PlasmaPlasma etchingMetallurgyChemical engineeringAnalytical Chemistry (journal)NanotechnologyEnvironmental chemistry
타입
Article
IF / 인용수
4.1 / 2
원문
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2022.107004
게재 연도
2022