EUV Inorganic Photoresist Thin Film Materials and Precursor Process Development
연구 내용
EUV 극자외선에 반응하는 무기물 기반 포토레지스트 박막과 전구체 공정을 개발하는 연구
본 연구는 EUV 노광에 대응하는 무기물 기반 박막 포토레지스트 소재를 확보하고, 금속유기 전구체 기반 건식 기상반응을 통해 증착 공정을 구현하는 데 목적을 둡니다. 전구체 반응성과 박막의 조성·미세구조를 연계해 노광 후 반응 거동과 패터닝 적합성을 높이는 방향으로 연구를 수행합니다. 또한 박막 결함과 균일성, 공정 재현성 관점에서 공정 창(window)을 정리하는 차별성을 보입니다. 이를 통해 고해상도 미세가공용 원천 소재 공정 기반을 마련하고자 합니다.
관련 연구 성과
관련 논문
0편
관련 특허
0건
관련 프로젝트
3건
연구 흐름
초기에는 금속유기 전구체의 반응성 확보와 건식 기상반응 기반 증착 조건을 설정하여 무기물 박막의 형성 메커니즘을 정리했습니다. 이후 박막 조성과 미세구조를 공정 변수에 따라 비교·분석하고, EUV 노광 반응성 및 공정 적합성을 평가하는 체계를 구축했습니다. 이후에는 박막 결함과 균일성을 개선하기 위해 조건을 반복적으로 최적화하고, 패터닝 관점에서의 적용 가능성을 확인하는 연구로 확장되었습니다. 최근에는 소재-공정-패턴 적합성을 일관된 관점에서 조정하는 방향으로 심화되었습니다.
활용 가능성
활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.
관련 프로젝트
구분
제목
EUV 광 반응성이 있는 무기물 기반 화합물 박막 소재 및 전구체 기술개발
EUV 광 반응성이 있는 무기물 기반 화합물 박막 소재 및 전구체 기술개발
EUV 광 반응성이 있는 무기물 기반 화합물 박막 소재 및 전구체 기술개발