Fluorinated photoresist-driven photolithography pixel patterning for OLEDs
연구 내용
고불소 및 스피로피란 기반 포토레지스트를 설계하여 OLED 공정 중 화학적·환경적 손상을 최소화하고, 고해상도 화소 패터닝 공정을 구현하는 연구
OLED 화소 제작에서 포토리소그래피 공정은 유기 반도체 층에 대한 화학적 침해와 대기 노출에 따른 열화가 핵심 제약입니다. 본 연구는 고불소계 용제 적합성을 갖는 포토레지스트를 설계하고, 진공 증착 호환 또는 건식각·리프트-오프 공정에 유리한 패턴 유지 특성을 확보합니다. 또한 패턴 형성 동안 나타나는 용해·박리·잔류막 이슈를 줄이기 위해 증착형 보호층 및 용매 내성 전자수송층 조합을 적용하며, PDL 해상도 향상을 위한 공정 창을 도출합니다.
관련 연구 성과
관련 논문
3편
관련 특허
7건
관련 프로젝트
5건
연구 흐름
초기에는 고불소계 용제를 활용한 포토리소그래피에서 화학적 침해를 억제하는 포토레지스트 조성 및 공정 조건을 확보하는 데 집중했습니다. 이후에는 고해상도 화소 구조를 위해 패턴 정밀도와 잔류막을 동시에 고려하는 공정 플랫폼을 구축하고, 용제 내성을 가진 ETL을 병행하여 현상·스트리핑 단계의 영향을 줄이는 방향으로 확장했습니다. 최근에는 진공 증착 호환 포토레지스트와 다색·다중 픽셀 패터닝을 위한 리소그래피 흐름으로 심화하여 대면적 고해상도 OLED 구현에 필요한 소재-공정 연계를 강화하고 있습니다.
활용 가능성
활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.
관련 논문
구분
제목
Two-Color Pixel Patterning for High-Resolution Organic Light-Emitting Displays Using Photolithography
Vacuum-Depositable Fluorinated Photoresist toward Organic Light-Emitting Diode (OLED) Patterning
P‐210: Photolithography Patterning of Organic Light‐Emitting Diodes Using Solvent Resistant Electron Transport Materials
관련 특허
구분
제목
포토레지스트용 조성물 및 이를 이용하는 유기 반도체 제조 공정
주쇄 절단형 고불소화 고분자 포토레지스트, 이의 제조방법 및 이의 용도
주쇄 절단형 고불소화 고분자 포토레지스트 및 그 제조방법
실리콘 함유 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
스피로피란 구조를 포함하는 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
고불소계 용제로 가공이 가능한 고불소화 포지티브형 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
관련 프로젝트
구분
제목
6,000 PPI급 초고해상도 OLEDoS용 포토리소 기반 RGB 자발광 프론트 플레인 패터닝 및 패널 기술 개발
리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발
리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발
리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발
리소그래피(Lithography) 공정에 의한 OLED 화소 형성 기술 개발