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Article|
·
인용수 11
·2022
Accelerated Deep Learning Dynamics for Atomic Layer Deposition of Al(Me)3 and Water on OH/Si(111)
Hiroya Nakata, Michael Filatov, Cheol Ho Choi
IF 9.5 (2022) ACS Applied Materials & Interfaces
초록

반응물의 범위 15–20 Å/ps에서의 값이다. 따라서 제안된 프로토콜은 훨씬 적은 계산 비용으로 복잡한 화학 반응 동역학을 연구할 수 있는 매우 효과적인 도구를 제공한다.

*본 초록은 AI를 통해 원문을 번역한 내용입니다. 정확한 내용은 하기 원문에서 확인해주세요.

키워드
Atomic layer depositionMaterials sciencePhysisorptionAb initioAdsorptionMolecular dynamicsComputer scienceDeposition (geology)NanotechnologyComputational science
타입
Article
IF / 인용수
9.5 / 11
게재 연도
2022