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광 반응성 물리 복제 불가능 함수(PUF) 패턴 생성 및 보안 연구

Photo-Responsive Physical Unclonable Function Pattern Generation for Security

연구 내용

산화물 입자 동역학을 이용해 폴리머 막에서 확장 가능한 랜덤 광학·전기 PUF 패턴을 생성하고, 기계학습 공격 내성을 갖는 보안 하드웨어를 구현하는 연구

이 분야는 전자소자 호환 보안 원천으로서 물리 복제 불가능 함수의 확장 가능한 생성 방식을 다룹니다. 폴리머 용액 내 산화물 입자를 분산한 뒤 막 형성 과정에서 나타나는 확률적 응집을 활용하여 마이크로부터 나노 스케일까지 스케일 가능한 랜덤 패턴을 만듭니다. 또한 자외선 노출 및 마스크 공정을 통해 광학 처리 기반의 unclonable 패턴을 만들고, 전도성 폴리머에서는 전기적으로도 복제 불가능한 패턴을 생성하는 전략을 제시합니다. 만들어진 패턴은 광학 기반 인증과 암호 적용에 필요한 견고한 보안 속성을 갖도록 검증합니다.

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연구 흐름

초기에는 폴리머 막 형성 중 나타나는 입자 동역학이 랜덤 패턴에 미치는 영향을 분석하고, 스케일 조절 가능성을 확인했습니다. 이후에는 광 반응 공정을 결합해 자외선 노출 조건과 마스크 구조를 조절함으로써 복제 불가능성을 갖는 보안 패턴을 구현했습니다. 최근에는 광학 및 전기 출력이 모두 가능한 플랫폼으로 확장하여, 기계학습 기반 예측 시도에 대한 내성을 평가하는 방향으로 연구를 수행하고 있습니다.

활용 가능성

활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.

  • 광학 기반 PUF 보안 라벨
  • 자가 파괴형 unclonable 패턴
  • 복제 불가 인증 토큰
  • micro/nano 스케일 보안 부품
  • ML 공격 내성 인증
  • 전기/광 동시 보안 구현
  • 위변조 방지 하드웨어
  • 부품 도난 방지 태깅
  • 웨어러블 보안 모듈
  • 암호 모듈용 물리키

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