산화물의 부분 불소화는 균형 잡힌 광학적 특성 덕분에 옥시플루오르화물을 유망한 비선형 광학(NLO) 물질의 한 계열로 자리매김하게 했다. 그러나 강한 광학적 비선형성을 달성하기 위해 광학 크로모포어를 효과적으로 배열하는 일은 여전히 어렵다. 본 연구에서는 1 [NbOF 4 ] ∞ 사슬 기반 옥시플루오로니오베이트의 구조 화학을 탐구하고, 주요 구조적 지문 인자들을 정량화하기 위한 분자 기하학적 틀을 정립한다. 즉, ∠(O─Nb─O′) 결합각, χ [F,Nb,Nb′,F′] 비틀림각, 사슬 정렬, 그리고 [NbO 2 F 4 ] 노드의 왜곡이다. 이론적 계산은 이러한 인자들이 2차 고조파 생성(SHG) 활성에 결정적으로 영향을 미침을 확인한다. 최적으로 정렬된 1 [NbOF 4 ] ∞ 사슬에 π-공액 비우렛(C 2 H 5 N 3 O 2 ) 분자를 통합함으로써, (H 3 O)(Biu) 2 (NbOF 4 ) (Biu = 비우렛)를 합성하였으며, 이는 전이금속(TM) 옥시플루오르화물 중 기록을 경신하는 SHG 반응을 보이는 결정이다. 그 SHG 세기는 KH 2 PO 4 에 비해 10.8배에 이르며, 추가로 중간 정도의 복굴절(Δ n = 0.062 @1064 nm)과 넓은 밴드갭(E g = 4.50 eV)을 통해 고성능 자외선(UV) NLO 물질로서의 잠재력을 뒷받침한다. 이러한 결과는 극성 사슬을 완전히 활성화하는 데 있어 구조적 지문 최적화의 힘을 보여주며, SHG 성능이 향상된 차세대 UV NLO 결정 설계를 위한 새로운 전략을 제공한다.

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