기본 정보
연구 분야
프로젝트
발행물
구성원
article|
인용수 24
·2020
Zeta potential-tunable silica abrasives and fluorinated surfactants in chemical mechanical polishing slurries
Seung-Chul Hong, Deoksu Han, Keon‐Soo Jang
IF 6.1Wear
키워드
Chemical-mechanical planarizationMaterials scienceWaferSlurryZeta potentialPolishingAbrasion (mechanical)Colloidal silicaNanotechnologyFabrication
타입
article
IF / 인용수
6.1 / 24
게재 연도
2020