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article
|
인용수 24
·
2020
Zeta potential-tunable silica abrasives and fluorinated surfactants in chemical mechanical polishing slurries
Seung-Chul Hong
,
Deoksu Han
,
Keon‐Soo Jang
IF 6.1
Wear
키워드
Chemical-mechanical planarization
Materials science
Wafer
Slurry
Zeta potential
Polishing
Abrasion (mechanical)
Colloidal silica
Nanotechnology
Fabrication
타입
article
IF / 인용수
6.1 / 24
원문
https://doi.org/10.1016/j.wear.2020.203590
게재 연도
2020