인쇄 기반 비진공 OLED/ QD-LED 공정 및 균일도 확보 기술

Ink-Printing–Based Non-Vacuum OLED and QD-LED Process and Uniformity Control

연구 내용

고점도 비뉴턴 잉크의 고온 잉크젯 인쇄로 QD-LED 막 균일도를 확보하고, 비진공 공정에서 OLED 화소전극과 투명전극을 인쇄 공정으로 구현하는 연구

디스플레이 제조에서는 진공 증착 의존도를 낮추고 대면적 공정에서 막 형성의 균일도를 확보하는 것이 핵심입니다. 본 연구는 비진공 공정에서 OLED 화소전극 소재와 인쇄 공정 핵심기술을 개발하고, 투명전극 형성에 필요한 인쇄 적합성을 확보하는 방향으로 수행됩니다. 동시에 QD-LED용 100 cp급 비뉴턴 잉크를 50℃ 이상 고온 조건에서 잉크젯 프린팅하여 픽셀 내 두께·조성 균일도를 개선합니다. 또한 ZnO 나노입자의 solution printing 기반 ETL 형성으로 저층수 공정 호환성을 검증합니다.

관련 프로젝트

6건

연구 흐름

초기에는 solution printing 방식으로 ZnO 나노입자 ETL을 구성하여 QLED의 전하 수송 특성과 효율 개선 가능성을 확인했습니다. 이후 2019년부터 비진공 공정 제조를 목표로 OLED 화소전극 소재와 투명전극 인쇄 공정 핵심기술을 개발하는 프로젝트를 수행했습니다. 2021년 이후에는 QD-LED 디스플레이의 균일도 향상을 위해 100 cp 급 비뉴턴 잉크의 고온 잉크젯 프린팅 조건을 확립하고, 50℃ 이상에서 인쇄 품질과 막 균일도를 확보하는 연구로 확장했습니다. 최근까지 공정 조건과 기능층 형성의 연계를 중심으로 성능 재현성을 검토하고 있습니다.

활용 가능성

활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.

고온 잉크젯 프린팅 공정조건
비뉴턴 잉크 조성 최적화
QD-LED 막 균일도 확보
비진공 화소전극 형성
투명전극 인쇄공정
대면적 인쇄 신뢰성
픽셀 전극/수송층 정렬
용액 공정 기반 ETL 제작
공정 단순화 설계
제조 리스크 저감 검증