다단계 플라즈마 식각 공정을 사용하여 실리카 미립자를 통해 서로 다른 형상의 고분자 나노니들 어레이를 제작하는 방법을 확립하였다. 각 단계의 식각 조건은 전력, 바이어스 전력, 가스 조성 및 양, 압력, 시간과 같은 식각 파라미터를 탐색하여 결정하였다. 실리카 미립자를 한 단계에서 연속적으로 식각할 때, 실리카와 고분자 간의 식각 속도 차이로 인해 실리카 미립자가 불안정해지며 불규칙한 나노니들 어레이가 형성되었다. 실리카 미립자의 직경을 감소시키고 그 결과 실리카 미립자의 질량 중심을 안쪽으로 이동시키기 위해 실리카 미립자에 대해 선택적 식각을 수행하는 안정화 단계를 도입함으로써, 실리카 마스크의 불안정성이 제거되었고 나노구조의 불규칙성이 최소화되었다. 그 결과, 고분자 나노니들 어레이를 제작하기 위한 다단계 식각 공정이 확립되었다. 각 단계의 조건에 따라 다양한 형태의 고분자 나노구조 어레이가 제작되었다.

*본 초록은 AI를 통해 원문을 번역한 내용입니다. 정확한 내용은 하기 원문에서 확인해주세요.