The Reflectance Characteristics of an Inverse Moth-Eye Structure in a Silicon Substrate Depending on SF6/O2 Plasma Etching Conditions
Jong‐Chang Woo, Doo‐Seung Um
IF 3.4 (2022) Micromachines
초록
빛 반사를 감소시키기 위한 가스를 사용하였다. 높은 식각 속도는 높은 표면 거칠기를 유발하며, 이는 낮은 표면 반사 특성을 초래한다. 역(逆) 모스아이 구조는 대각선으로 배열된 정사각형 PR 패턴을 사용하여 구현하였고, 첨두 간격 1 μm에서 가시광 영역에서 최소 반사를 나타냈다. 본 연구는 더 높은 효율의 광학 소자 개발에 적용될 수 있다.
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