본 연구에서는 선형 가이드에서 발생하는 운동오차가 프로파일 측정의 정확도에 영향을 줄 수 있다는 점을 보상하는, 정밀한 온머신(line-profile) 측정 시스템을 개발하였다. 이를 위해 측정 시스템 모델의 원리를 이용하여 선형 프로파일에 대한 보상 운동오차 성분을 분석하고, 또한 3가지 유형의 MPES 방법(Integration-Method, the Fourier-Model-Method, the Sequential-Method)을 검토하였다. 운동오차를 계산하기 위해 다중 프로브 오차 분리 방법(MPES)을 적용하였으며, 그 결과를 이용하여 시편의 측정된 선형 프로파일을 보상하였다. 마지막으로 기준 아티팩트(reference-artifact), 용량성 센서(capacitive-sensor), 그리고 3개의 변위 센서로 구성된 다중 프로브 측정 시스템을 포함하는 시뮬레이션 조건을 설계하고, 3가지 MPES 방법의 평가를 위해 몬테카를로 시뮬레이션을 수행하였다. 또한 후자의 성능을 검증하기 위해 기존 측정 시스템과 제안된 시스템으로부터 얻은 시뮬레이션 결과를 비교하였다. 그 결과 운동오차의 효율적인 보상이 가능한 것으로 나타났으며, 다중 프로브 측정 시스템의 적용 가능성이 확인되었다.

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