[최종목표](주관/공동연구개발기관)ㅇ 차세대 OLED 화소 공정기술 확보를 위한 핵심 소재·소자·공정 산업 원천기술 개발(세부연구개발기관) - 1세부 : 4,000ppi 이상급의 OLEDoS 광효율을 20% 이상 향상할 수 있는 나노구조 기반 광제어 소자 기술 개발 - 2세부 : 발광층 직접 증착을 위한 스퍼터링 공법을 활용한 대면적 글라스 기반 저온 ...
유기발광다이오드
미래 디스플레이
OLED 응용
디스플레이 소자
실리콘위증착유기발광다이오드
2
2024년 2월-2029년 2월
|7,479,592,000원
차세대반도체소재부품장비후공정전문인력양성
글로벌 경쟁력 확보를 위한 중소·중견기업 수요 연계 및 실무 중심형 반도체 소재·부품·장비 전문인력 양성- 석박사 교육과정개발 운영 : 차세대반도체 소재,부품,장비, 후공정 분야 연간 신규 110명 이상 양성- 산업계 수요를 반영한 산학 프로젝트 및 전문 교육과정 운영- 산학협력체계 구축 및 성과확산
반도체소재부품장비
반도체 후공정
인적자원
학위과정
3
2023년 2월-2027년 2월
|96,747,000원
BEOL p-FET 소자를 위한 높은 오비탈 겹침 특성을 갖는 고성능·고안정성 p형 반도체 연구
[데이터이관 글자수 검증으로 인한 추가 텍스트 입력][데이터이관 글자수 검증
모놀리식 3차원 반도체
BEOL적합 공정
p형 반도체
고이동도
고안정성
4
2023년 2월-2027년 2월
|87,073,000원
BEOL p-FET 소자를 위한 높은 오비탈 겹침 특성을 갖는 고성능·고안정성 p형 반도체 연구
■ 본 제안 연구에서는 가전자대 오비탈의 겹침 효과를 극대화하는 전략을 통해 우수한 정공 전도 특성을 가지는 Sn-O-X계 삼성분계 산화물 소재를 개발하고자 함. 이러한 연구를 통해 정공 전도 특성 및 소재 균일성이 우수한 p형 반도체의 개발 및 p형 반도체를 적용한 BEOL적합 p-FET 및 상보형 소자 응용 기술 개발을 목표로 함. 최종적으로 BEOL ...
모놀리식 3차원 반도체
BEOL적합 공정
p형 반도체
고이동도
고안정성
원자층증착법
p형 전계효과트랜지스터
5
주관|
2022년 5월-2025년 1월
|1,953,000,000원
초고효율 탠덤(다중접합)용 페로브스카이트 태양전지 요소기술 개발
본 과제는 빛을 전기로 바꾸는 페로브스카이트 소재를 활용해 기존 실리콘 태양전지보다 더 높은 효율을 내는 차세대 탠덤 전지를 개발하려는 연구임. 여러 층의 광흡수층을 조합해 더 많은 빛 에너지를 활용하려는 개념을 바탕으로 초고효율과 장기 안정성을 동시에 확보하는 기술 확보를 목표로 함.
연구 목표는 P-P 이중접합에서 30% 이상, P-P-X 삼중접합에서 32% 이상의 효율과 높은 내구성 확보에 있음. 이를 위해 서로 다른 밴드갭(~1.25 eV, ~1.55 eV, ~1.8 eV, ~2.0 eV)을 갖는 단일접합 소자의 성능과 안정성 최대화 연구, 이들의 조합을 통한 다중접합 탠덤 구조의 최적화, 그리고 정공전달층·전자전달층·재결합층 등 계면 소재 및 공정 기술 개발이 추진됨. 이러한 기술 확보를 통해 고효율·저비용 태양전지 실현 가능성이 높아짐과 동시에 발광소자, 디텍터 등 다양한 광학 소자 분야로의 적용성이 확대됨. 궁극적으로 차세대 태양전지 분야에서 기술 경쟁력 강화와 시장 주도권 확보가 기대됨.