우리는 고속 액정 모드에 대해 반응성 메소젠(RMs)을 내포한 포토폴리이미드(PI)의 표면 정착 에너지를 향상시킬 수 있는 이중 주파수 자외선(UV) 노출 공정을 제안한다. 실험에서는 340 nm를 초과하는 장파장 UV 광을 이용해 RM 물질을 중합한 다음, 254 nm에서 340 nm 사이의 단파장 UV 광으로 UV 정렬층의 중합을 수행한다. 그 결과, 이 논문에서는 이면 스위칭(IPS) 및 꼬인 네마틱(TN) 액정 모드에서 향상된 표면 정착 에너지와 빠른 응답 시간을 입증한다.

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