|정윤장 교수 연구실
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인용수 2
·2025
Atomic layer deposition of Ru/rutile Al-TiO2/Ru layer stacks for high-performance silicon capacitors
Taehyun Kim, Dong-Hwan Lim, Hyeongjun Kim, Hyunmin Nah, Heun Park, Yoon Jang Chung, Woongkyu Lee
IF 4.6 (2025) Materials Science in Semiconductor Processing
키워드
Materials scienceAtomic layer depositionLayer (electronics)RutileCapacitorSiliconDeposition (geology)OptoelectronicsNanotechnologyChemical engineering
타입
Article
IF / 인용수
4.6 / 2
원문
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2025.109646
게재 연도
2025