Atomic Layer Growth of Rutile TiO2 Films with Ultrahigh Dielectric Constants via Crystal Orientation Engineering
Taikyu Kim, Jihoon Jeon, Seung Ho Ryu, Hong Keun Chung, Myoungsu Jang, Seunghyeok Lee, Yoon Jang Chung, Seong Keun Kim
IF 8.2 (2024) ACS Applied Materials & Interfaces
초록
현대적 동적 랜덤 액세스 메모리 셀에 부합하는 수준까지 누설 전류를 성공적으로 억제하면서도 벌크 유전율 137의 높은 값을 유지한다. 이러한 결과는 향후 반도체 소자를 위한 ALD 박막에서 결정 방위(orientation) 공학을 활용할 수 있는 가능성을 명확히 보여준다.
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