| 번호 | 청구항 |
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| 2 | 제1항에 있어서, 상기 PDMS 기판은 상부에 마이크로필라(micropillar) 패턴이 형성된 것인, 방법. |
| 1 | PDMS 기판을 준비하는 단계;상기 PDMS 기판 상에 화장료 조성물을 도포하여 화장막을 형성하는 단계; 및X선 CT를 이용하여, 상기 화장막이 형성된 PDMS 기판의 변형 정도를 분석하는 단계;를 포함하는, PDMS(poly(dimethyl siloxane)) 기반 화장막 제형 분석 방법. |
| 3 | 제2항에 있어서, 상기 마이크로필라 패턴은 원기둥 모양의 필라들이 육각형으로 규칙적으로 배열된 것으로, 상기 각각의 필라의 높이는 20 내지 200 μm이고, 지름은 20 내지 200 μm인, 방법. |
| 4 | 제1항에 있어서,상기 화장료 조성물은 액상, 파우더 및 고체 중 어느 하나 이상의 형태를 포함하는, 방법. |
| 5 | 제1항에 있어서,상기 PDMS 기판의 변형 정도를 분석하는 단계에서 화장막의 당김 정도를 정량화하는 것인, 방법. |
| 6 | 제1항에 있어서,상기 PDMS 기판의 변형 정도를 분석하는 단계에서 10 KeV 이상의 X선을 투과하여 분석하는 것인, 방법. |
| 7 | 제2항에 있어서,상기 PDMS 기판의 변형 정도를 분석하는 단계에서,상기 화장료 조성물이 필라 상부(top)에 도포된 두께; 및상기 화장료 조성물이 필라 사이의 골짜기(valley)에 도포된 두께;를 측정하는, 방법. |
| 8 | 제2항에 있어서,상기 PDMS 기판의 변형 정도를 분석하는 단계에서 하기 식 1에 따라 변형률 값(ν)을 산출하는, 방법:[식 1]상기 식 1에서, εlongitudinal = (Hd - H0) / H0 , εlateral = (Dd - D0) / D0 이고, D0 는 화장막 형성 전 필라의 지름 값이며,H0 는 화장막 형성 전 필라의 높이 값이고,Dd 는 화장막 형성 후 필라의 지름 값이며,Hd 는 화장막 형성 후 필라의 높이 값이다. |
| 9 | 상부에 마이크로필라 패턴이 형성된 PDMS(poly(dimethyl siloxane)) 기판을 포함하는, 화장막 제형 분석용 인공 피부. |
| 10 | 제9항에 있어서, 상기 마이크로필라 패턴은 원기둥 모양의 필라들이 육각형으로 규칙적으로 배열된 것으로, 상기 각각의 필라의 높이는 20 내지 200 μm이고, 지름은 20 내지 200 μm인, 인공 피부. |
| 11 | 제9항에 있어서, 상기 화장막 제형 분석은 상기 인공 피부 상에 화장료 조성물을 도포한 후, X선 CT를 이용하여 상기 화장막이 형성된 PDMS 기판의 변형 정도를 분석하는 것인, 인공 피부. |
| 12 | 제11항에 있어서,상기 화장료 조성물은 액상, 파우더 및 고체 중 어느 하나 이상의 형태를 포함하는, 인공 피부. |
| 13 | 제9항에 있어서,상기 화장막 제형 분석은 화장막의 당김 정도를 정량화하는 것인, 인공 피부. |
| 14 | 제9항에 있어서,상기 화장막 제형 분석은 10 KeV 이상의 X선을 투과하여 분석하는 것인, 인공 피부. |
| 15 | 제10항에 있어서,상기 화장막 제형 분석은,상기 화장료 조성물이 필라 상부(top)에 도포된 두께; 및상기 화장료 조성물이 필라 사이의 골짜기(valley)에 도포된 두께;를 측정하여 분석하는 것인, 인공 피부. |
| 16 | 제10항에 있어서,상기 화장막 제형 분석은, 하기 식 1에 따라 변형률 값(ν)을 산출하여 분석하는 것인, 인공 피부:[식 1]상기 식 1에서, εlongitudinal =(Hd - H0) / H0, εlateral = (Dd - D0) / D0 이고, D0 는 화장막 형성 전 필라의 지름 값이며,H0 는 화장막 형성 전 필라의 높이 값이고,Dd 는 화장막 형성 후 필라의 지름 값이며,Hd 는 화장막 형성 후 필라의 높이 값이다. |