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번호	청구항
5	제1항에 있어서, 상기 마스크를 진공으로 대기시킨 후, 상기 마스크가 이송 챔버에 위치할 때, 상기 이송 챔버의 내부와 세정 챔버의 내부에 공정 가스를 공급하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
6	제5항에 있어서, 상기 이송 챔버에 공정 가스를 공급할 때, 상기 이송 챔버의 압력이 세정 챔버의 압력 이상이 되도록 하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
7	제5항에 있어서, 상기 이송 챔버에 대기중인 마스크를 세정 챔버로 이송할 때, 상기 이송 챔버로부터 상기 세정 챔버를 향하는 방향으로 상기 이송 챔버 내부에 공정 가스를 공급하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
8	제1항에 있어서, 상기 레이저 초점을 형성할 때, 마스크의 표면과 평행한 방향으로 레이저 빔을 조사하며, 상기 마스크의 표면으로부터 2 내지 10mm 떨어진 위치에 상기 레이저 초점을 형성하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
1	극자외선 리소그래피 장치의 노광 챔버와 연결되는 세정 챔버, 상기 노광 챔버와 상기 세정 챔버 사이에 위치한 이송 챔버, 및 상기 세정 챔버에 설치되는 레이저 모듈을 포함하는 세정 장치를 이용한 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법에 있어서, 이송 챔버의 내부를 진공으로 배기시켜 노광 챔버로부터 상기 이송 챔버로 이송받은 마스크를 진공 상태로 대기시키는 단계; 상기 세정 챔버의 내부에 공정 가스를 공급하는 단계; 상기 노광 챔버로부터 오염 물질이 부착된 마스크를 이송 챔버를 거쳐 세정 챔버로 이송하는 단계; 및 상기 레이저 모듈을 구동하여 상기 마스크와 일정 거리 떨어진 위치에 레이저 초점을 형성하고, 레이저 초점에 의해 형성된 레이저 유기 플라즈마 충격파를 이용하여 상기 마스크의 표면에 부착된 오염 물질을 제거하는 단계 를 포함하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
2	제1항에 있어서, 상기 세정 챔버로 마스크를 이송한 후 상기 세정 챔버의 압력을 0.1 내지 0.5MPa로 조절하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
3	제1항에 있어서, 상기 세정 챔버로 마스크를 이송한 후 상기 세정 챔버의 습도를 40% 이하로 조절하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
4	삭제
9	제1항에 있어서, 상기 마스크의 표면에 부착된 오염 물질을 제거한 이후, 세정 챔버의 내부를 오염물이 없는 공정 가스로 재충전하고, 세정이 완료된 마스크를 상기 세정 챔버의 외부로 반출하는 단계를 더 포함하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
10	제1항에 있어서, 상기 마스크의 표면에 부착된 오염 물질을 제거한 이후, 세정이 완료된 마스크를 이송 챔버를 거쳐 상기 노광 챔버로 이송하는 단계를 더 포함하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
11	제10항에 있어서, 상기 마스크를 노광 챔버로 이송하기 전, 이송 챔버의 내부를 배기시켜 진공화하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 방법.
12	극자외선 리소그래피 장치의 노광 챔버와 연결되어 상기 노광 챔버로부터 오염 물질이 부착된 마스크를 이송받는 세정 챔버; 상기 노광 챔버와 상기 세정 챔버 사이에 위치하는 이송 챔버; 상기 이송 챔버에 설치되어 상기 이송 챔버의 내부를 진공화하는 진공 제어부; 상기 세정 챔버에 설치되며, 레이저 빔을 발생시키는 레이저 발진기와, 상기 레이저 빔의 경로와 초점을 제어하는 광학계를 구비하여 상기 세정 챔버 내부에서 상기 마스크를 향해 레이저 유기 플라즈마 충격파를 발생시키는 레이저 모듈을 포함하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 장치.
13	삭제
14	제12항에 있어서, 상기 이송 챔버와 세정 챔버에 각각 설치되어 상기 이송 챔버의 내부와 상기 세정 챔버의 내부에 공정 가스를 주입하는 공정 가스 공급부를 더 포함하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 장치.
15	제14항에 있어서, 상기 공정 가스 공급부가 공정 가스의 습도를 조절하는 건조 장치와, 공정 가스에 포함된 오염 입자를 제거하는 입자 필터를 구비하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 장치.
16	제12항에 있어서, 상기 광학계가 마스크의 표면과 평행한 방향으로 레이저 빔을 조사하며, 상기 마스크의 표면으로부터 2 내지 10mm 떨어진 지점에 상기 레이저 빔의 초점을 형성하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 장치.
17	제12항에 있어서, 상기 세정 챔버의 내부에 설치되어 잔여 레이저 빔을 흡수하는 흡수 부재를 더 포함하는 극자외선 리소그래피용 마스크의 세정 장치.