화학기상증착장치
Chemical vapor deposition apparatus
특허 요약
본 발명은 화학기상증착장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 산화갈륨(갈륨옥사이드 : Ga 2 O 3 )막 등을 증착하는 공정에 의해 처리공간의 바닥 및 내벽에 파티클 등이 부착한 경우에 이를 제거하여 세정할 수 있는 화학기상증착장치에 대한 것이다.
청구항
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 | 챔버;상기 챔버의 내부에 구비되어 기판이 안착되는 서셉터가 안착되며, 상기 기판에 대한 처리공간을 형성하는 하부플레이트;상기 서셉터의 하부 또는 상기 서셉터의 둘레에 구비되어 상기 기판 또는 서셉터를 가열하는 제1 히터; 및상기 하부플레이트의 하부에 구비되어 상기 하부플레이트를 가열하는 제2 히터;를 구비하는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치. |
