플라텍 주식회사
플라즈마 식각 장치용 EMI 쉴드 가스켓 및 이를 포함하는 플라즈마 식각 장치
EMI SHIELD GASKET FOR PLASMA ETCHING APPARATUS AND PLASMA ETCHING APPARATUS INCLUDING THEREOF
특허 요약
본 발명에 따른 EMI 차폐 가스켓은, 나선형으로 감긴 전기전도성을 가지는 스트립; 및 상기 스트립의 내부에 위치하며, 가스켓의 중심축을 따라 연장되는 중심부와, 상기 중심부가 노출되지 않도록 연속적으로 상기 중심부 외면 전체를 덮는 폴리머층을 포함하고, 상기 스트립은 전기전도도가 1.0×10^6 S/m 이상 2.0×10^7 S/m 이하인 금속 재질로 형성되며, 상기 중심부는 탄성 재질로서 탄성계수(Young's modulus)가 5 MPa 내지 15 MPa 이하 범위로 설정되며, 상기 폴리머층은 불소함량이 75 내지 80wt%인 것을 특징으로 한다.
청구항
번호청구항
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나선형으로 감긴 전기전도성을 가지는 스트립; 및상기 스트립의 내부에 위치하며, 가스켓의 중심축을 따라 연장되는 중심부와, 상기 중심부가 노출되지 않도록 연속적으로 상기 중심부 외면 전체를 덮는 폴리머층을 포함하고, 상기 스트립은 전기전도도가 1.0×10^6 S/m 이상 2.0×10^7 S/m 이하인 금속 재질로 형성되며,상기 중심부는 탄성 재질로서 탄성계수(Young’s modulus)가 5 MPa 내지 15 MPa 이하 범위로 설정되며,상기 폴리머층은 불소함량이 75 내지 80wt%인 EMI 차폐 가스켓.