진공 공정 챔버에서 생성된 정전기를 제거하기 위한 양이온을 생성하여 공급하는, 플라즈마를 발생시킬 수 있는 챔버를 추가로 구비한 정전기 제전 장치로서,진공 상태 하에서 전기장이 형성되어 공정 가스로 플라즈마를 생성하는 플라즈마 생성 메인 챔버; 및생성된 플라즈마의 양이온이 이동하는 경로 상에 위치하면서, 상기 플라즈마 생성 메인 챔버에서 이동한 상기 공정 가스로 플라즈마를 추가 생성하는 플라즈마 생성 추가 챔버를 포함하고, 상기 플라즈마 생성 추가 챔버의 둘레에 위치하여 상기 플라즈마 생성 추가 챔버의 내부에 자기장을 형성함으로써, 플라즈마의 양이온이 직진 이동하도록 유도하는 전자석을 더 포함하는, 플라즈마를 발생시킬 수 있는 챔버를 추가로 구비한 정전기 제전 장치.