| 번호 | 청구항 |
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| 1 | a) 아크릴산 단량체, 초순수, 및 과황산칼륨 (Potassium Persulfate)을 첨가하여 폴리아크릴산을 합성하는 단계;b) 자성 제재를 염기성 분위기에 분산시켜 염기성 처리된 자성나노입자를 수득하는 단계; 및c) 단계 b)에서 수득한 자성나노입자를 폴리아크릴산의 반응조에 투입하여 표면을 코팅시키는 단계를 포함하는, 표면개질된 자성나노입자 제조 방법으로,상기 염기성 분위기는 NaOH를 이용하여 조성되는 것을 특징으로 하고,상기 단계 c)는 65 내지 75℃에서 2 내지 4시간 동안 350-450rpm으로 교반한 후 18 내지 28℃에서 2 내지 4시간 동안 350-450rpm으로 교반하는 것을 특징으로 하는, 제조 방법. |
| 2 | 제 1 항에 있어서,폴리아크릴산은 아크릴산 단량체 3 내지 6.5 중량부, 초순수 93 내지 96.5 중량부, 및 과황산칼륨 0.05 내지 0.5 중량부를 포함하는, 제조 방법. |
| 3 | 제 1 항에 있어서,초순수는 비저항값이 25℃에서 16 내지 20MΩ.cm인 것인, 제조 방법. |
| 4 | 제 1 항에 있어서,단계 a)는 85 내지 95℃에서 350-450rpm으로 합성하는, 제조 방법. |
| 5 | 삭제 |
| 6 | 제 1 항에 있어서,단계 c)는 유전자를 추출하도록 카복실기로 표면을 개질시키는 것인, 제조 방법. |
| 7 | 제 1 항에 있어서,자성 제재는 Fe2O3, Fe3O4, CoFe2O4, MnFe2O4, FePt, 및 CoPt으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것인, 제조 방법. |
| 8 | 삭제 |
| 9 | 제 1 항 내지 제 4 항, 제 6 항 및 제 7 항 중 어느 한 항의 표면개질된 자성나노입자 제조 방법으로 제조된 표면개질된 자성나노입자. |
| 10 | 제 9 항에 있어서,자성나노입자는 입자의 지름이 80 내지 200nm인, 자성나노입자. |
| 11 | 제 9 항의 표면개질된 자성나노입자를 포함하는, 표면개질된 자성나노입자를 포함한 유전자 추출용 조성물. |
| 12 | 제 9 항의 표면개질된 자성나노입자를 포함하는, 표면개질된 자성나노입자를 포함한 유전자 추출 키트. |
| 13 | (a) 제 9 항의 표면개질된 자성나노입자를 대상 시료에 처리하는 단계; 및(b) 자석에 의해 생성된 자기장을 이용하여 자성나노입자로부터 유전자를 검출하는 단계를 포함하는, 표면개질된 자성나노입자를 포함한 유전자 추출 방법. |
