실리콘 웨이퍼 리프팅 링으로서,상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은 박막 증착 챔버 내에 설치될 수 있고, 상기 박막 증착 챔버 내에는 실리콘 웨이퍼를 재치하여 박막 증착을 수행하는 데 사용되는 히터가 설치되고,상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은 신축 가능한 내경을 갖고,박막을 증착하는 동안, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은, 상기 신축 가능한 내경이 실리콘 웨이퍼 직경과 히터 직경보다 큰 제1 내경까지 확장되며, 상기 실리콘 웨이퍼 및 상기 히터와 접촉되지 않도록 구성되고,상기 실리콘 웨이퍼를 리프팅시키는 동안, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은, 상기 제1 내경이 상기 실리콘 웨이퍼 직경보다 작은 제2 내경까지 수축되며, 상기 실리콘 웨이퍼의 바닥부까지 이동하여, 상기 실리콘 웨이퍼를 리프팅시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는, 실리콘 웨이퍼 리프팅 링.

제1항에 있어서, 상기 실리콘 웨이퍼 직경과 상기 히터 직경보다 큰 제3 내경을 갖는 환형 구조인 리프팅 링 본체;상기 리프팅 링 본체와 슬라이딩 가능하도록 연결되고, 환형으로 분포되며, 내접원의 직경이 상기 신축 가능한 내경으로 사용되는 복수의 신축 부재;상기 신축 부재와 전동 연결되고, 상기 신축 부재에 대해 상기 리프팅 링 본체 반경 방향을 따라 작용력을 인가하여, 상기 신축 부재가 리프팅 링 본체 중심의 방향을 향하거나 멀어지도록 슬라이딩시킴으로써, 상기 신축 가능한 내경을 변경할 수 있는 전동 부재; 및 상기 전동 부재 및 상기 리프팅 링 본체가 회전하도록 구동시키는 데 사용되는 구동 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는, 실리콘 웨이퍼 리프팅 링.

제2항에 있어서,상기 신축 부재는 상기 리프팅 링 본체와 힌지 결합되고, 상기 신축 부재의 표면에는 복수의 볼록부가 설치되고,상기 전동 부재는 상기 리프팅 링 본체에 대해 동축으로 회전 가능한 환형 구조로 구성되고, 상기 신축 부재는 상기 리프팅 링 본체와 상기 전동 부재 사이에 위치하고, 상기 전동 부재의 표면에는 복수의 슬라이딩 홈이 개설되고, 각각의 상기 볼록부는 대응하는 상기 슬라이딩 홈 내에 각각 슬라이딩 가능하도록 설치되고, 상기 전동 부재가 회전하도록 구동되면, 상기 슬라이딩 홈은 상기 볼록부에 대해 상기 신축 부재를 상기 리프팅 링 본체 반경 방향으로 슬라이딩시키는 작용력을 생성하는 것을 특징으로 하는, 실리콘 웨이퍼 리프팅 링.

제2항에 있어서,상기 신축 부재는 상기 리프팅 링 본체와 힌지 결합되고, 상기 신축 부재의 표면에는 슬라이딩 홈이 설치되고, 상기 전동 부재는 상기 리프팅 링 본체에 대해 동축으로 회전 가능한 환형 구조로 구성되고, 상기 신축 부재는 상기 리프팅 링 본체와 상기 전동 부재 사이에 위치하고, 상기 전동 부재의 표면에는 복수의 볼록부가 설치되고, 각각의 상기 볼록부는 대응하는 상기 슬라이딩 홈 내에 각각 슬라이딩 가능하도록 설치되고, 상기 전동 부재가 회전하도록 구동되면, 상기 볼록부는 상기 슬라이딩 홈에 대해 상기 신축 부재를 상기 리프팅 링 본체 반경 방향으로 슬라이딩시키는 작용력을 생성하는 것을 특징으로 하는, 실리콘 웨이퍼 리프팅 링.

제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 신축 부재와 상기 리프팅 링 본체가 동일한 열팽창 계수를 갖는 세라믹 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는, 실리콘 웨이퍼 리프팅 링.

박막 증착 설비로서,제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 실리콘 웨이퍼 리프팅 링을 포함하고,실리콘 웨이퍼를 수용하는 데 사용되는 박막 증착 챔버;상기 박막 증착 챔버 내에 위치하는 히터;상기 히터의 상방에 위치하며, 상기 박막 증착 챔버 내에 반응 가스를 주입하는 데 사용되는 샤워 헤드; 및상기 실리콘 웨이퍼를 지지하는 데 사용되는 복수의 지지 기둥을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 증착 설비.

제6항에 있어서,상기 박막 증착 설비가 플라즈마 강화 화학 기상 증착 설비인 것을 특징으로 하는, 박막 증착 설비.

제6항 또는 제7항에 따른 박막 증착 설비에 적용되는 박막 증착 방법으로서,S10: 상기 히터는 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링의 하방에 승강 가능하도록 위치하고, 상기 지지 기둥은 히터를 관통하며 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링보다 높게 상승하고, 로봇은 실리콘 웨이퍼를 상기 박막 증착 챔버 내로 이동시키고, 상기 실리콘 웨이퍼를 지지 기둥으로 지지하는 단계;S11: 상기 지지 기둥의 높이는 변하지 않고, 상기 히터가 상승하여, 상기 실리콘 웨이퍼를 히터 상에 거치시키는 단계;S12: 상기 샤워 헤드를 통해 반응 가스를 주입하고, 1차 박막 증착을 실시하는 단계;S13: 상기 지지 기둥과 상기 실리콘 웨이퍼의 높이가 변하지 않고 유지되도록 제어하고, 상기 히터는 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링보다 낮게 하강하는 단계;S14: 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링의 신축 가능한 내경이 상기 실리콘 웨이퍼의 직경보다 작은 제2 내경까지 감소하도록 제어하는 단계;S15: 상기 실리콘 웨이퍼가 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링에 의해 재치될 때까지, 상기 지지 기둥이 상기 실리콘 웨이퍼가 하강하도록 구동시키는 것을 제어하고, 상기 지지 기둥은 상기 실리콘 웨이퍼와 분리되는 단계;S16: 상기 히터가 정지하여 움직이지 않고, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은 상기 실리콘 웨이퍼가 소정 각도까지 회전하도록 구동시키거나; 또는 상기 실리콘 웨이퍼가 재치된 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링이 정지하여 움직이지 않고, 상기 히터가 소정 각도까지 회전하는 단계;S17: 상기 실리콘 웨이퍼를 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링으로부터 들어올릴 때까지, 상기 지지 기둥이 상승하도록 제어하는 단계;S18: 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링의 신축 가능한 내경이 상기 실리콘 웨이퍼 직경과 상기 히터 직경보다 큰 제1 내경까지 확장되도록 제어하는 단계; 및S19: 상기 실리콘 웨이퍼가 상기 히터 상에 거치되어 다음 박막 증착을 실시할 때까지, 상기 지지 기둥과 상기 실리콘 웨이퍼의 높이가 변하지 않고 유지되도록 제어하고, 상기 히터가 상승하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 증착 방법.

제6항 또는 제7항에 따른 박막 증착 설비에 적용되는 박막 증착 방법으로서,S20: 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은 상기 히터의 하방에 승강 가능하도록 위치하고, 상기 지지 기둥은 상기 히터를 관통하며 상기 히터보다 높게 상승하고, 로봇은 실리콘 웨이퍼를 상기 박막 증착 챔버 내로 이동시키고, 상기 실리콘 웨이퍼를 상기 지지 기둥으로 지지하는 단계;S21: 상기 히터는 높이가 변하지 않고, 상기 지지 기둥이 하강하여, 상기 실리콘 웨이퍼를 상기 히터 상에 거치시키거나, 상기 지지 기둥은 높이가 변하지 않고, 상기 히터가 상승하여, 상기 실리콘 웨이퍼를 상기 히터 상에 거치시키는 단계;S22: 상기 샤워 헤드를 통해 반응 가스를 주입하고, 1차 박막 증착을 실시하는 단계;S23: 상기 지지 기둥이 상기 실리콘 웨이퍼가 상승하도록 구동시키는 것을 제어하고, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링이 상기 실리콘 웨이퍼와 상기 히터 사이까지 상승하거나, 상기 지지 기둥이 상기 실리콘 웨이퍼를 지지하고, 상기 히터가 하강하며, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링이 상기 실리콘 웨이퍼와 상기 히터 사이까지 상승하는 단계;S24: 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링의 신축 가능한 내경이 상기 실리콘 웨이퍼 직경보다 작은 제2 내경까지 감소하도록 제어하는 단계;S25: 상기 실리콘 웨이퍼가 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링에 의해 재치될 때까지, 상기 지지 기둥이 상기 실리콘 웨이퍼가 하강하도록 구동시키는 것을 제어하고, 상기 지지 기둥은 상기 실리콘 웨이퍼와 분리되거나, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은 상기 실리콘 웨이퍼를 리프팅시키고 상기 실리콘 웨이퍼가 계속 상승하도록 구동시킬 때까지 상승하고, 상기 지지 기둥은 상기 실리콘 웨이퍼와 분리되는 단계;S26: 상기 히터가 정지하여 움직이지 않고, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은 상기 실리콘 웨이퍼가 소정 각도까지 회전하도록 구동시키거나; 또는 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링과 상기 실리콘 웨이퍼가 정지하여 움직이지 않고, 상기 히터가 소정 각도까지 회전하는 단계;S27: 상기 실리콘 웨이퍼를 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링으로부터 들어 올릴 때까지, 상기 지지 기둥이 상승하도록 제어하거나, 상기 지지 기둥이 상기 실리콘 웨이퍼를 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링으로부터 들어 올릴 때까지, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링이 하강하도록 제어하는 단계;S28: 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링의 신축 가능한 내경이 상기 실리콘 웨이퍼 직경과 상기 히터 직경보다 큰 제1 내경까지 확장되도록 제어하는 단계; 및S29: 상기 실리콘 웨이퍼가 상기 히터 상에 거치되어 다음 박막 증착을 실시할 때까지, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링이 상기 히터 하방까지 이동하도록 제어하고, 상기 지지 기둥은 상기 실리콘 웨이퍼가 하강하거나 상기 히터가 상승하도록 구동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 증착 방법.

제6항 또는 제7항에 따른 박막 증착 설비에 적용되는 박막 증착 방법으로서,S30: 상기 히터는 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링의 하방에 승강 가능하도록 위치하고, 상기 지지 기둥은 상기 히터를 관통하며 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링보다 높게 상승하고, 로봇은 실리콘 웨이퍼를 상기 박막 증착 챔버 내로 이동시키고, 상기 실리콘 웨이퍼를 상기 지지 기둥으로 지지하는 단계;S31: 상기 지지 기둥의 높이는 변하지 않고, 상기 히터가 상승하여, 상기 실리콘 웨이퍼를 상기 히터 상에 거치시키는 단계;S32: 상기 샤워 헤드를 통해 반응 가스를 주입하고, 1차 박막 증착을 실시하는 단계;S33: 상기 지지 기둥과 상기 실리콘 웨이퍼의 높이가 변하지 않고 유지되도록 제어하고, 상기 히터는 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링보다 낮게 하강하는 단계;S34: 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링의 신축 가능한 내경이 상기 실리콘 웨이퍼 직경보다 작은 제2 내경까지 축소되도록 제어하는 단계;S35: 상기 실리콘 웨이퍼가 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링에 의해 재치될 때까지, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링이 상승하도록 제어하고, 상기 지지 기둥은 상기 실리콘 웨이퍼와 분리되는 단계; S36: 상기 히터가 정지하여 움직이지 않고, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링은 상기 실리콘 웨이퍼가 소정 각도까지 회전하도록 구동시키거나; 또는 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링과 상기 실리콘 웨이퍼가 정지하여 움직이지 않고, 상기 히터가 소정 각도까지 회전하는 단계;S37: 상기 실리콘 웨이퍼가 상기 지지 기둥에 의해 재치되어, 상기 실리콘 웨이퍼가 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링과 분리될 때까지, 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링이 상기 실리콘 웨이퍼를 하강하도록 구동시키는 것을 제어하는 단계;S38: 상기 실리콘 웨이퍼 리프팅 링의 신축 가능한 내경이 상기 실리콘 웨이퍼 직경과 상기 히터 직경보다 큰 제1 내경까지 확장되도록 제어하는 단계; 및S39: 상기 실리콘 웨이퍼가 상기 히터 상에 거치되어 다음 박막 증착을 실시할 때까지, 상기 실리콘 웨이퍼와 상기 지지 기둥이 높이가 변하지 않고 유지되도록 제어하고, 상기 히터가 상승하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 증착 방법.