웰 구조체에 삽입되는 필라 어레이에 배양된 세포의 침습비율을 측정하는 방법으로서, 복수의 마이크로 필라를 갖는 필라 어레이 및 상기 복수의 마이크로 필라가 각각 삽입가능한 복수의 마이크로 웰을 갖는 웰 구조체가 준비되는 S1 단계; 상기 필라 어레이의 마이크로 필라의 단부 접촉면에 부착된 세포외기질에서 세포를 배양하여 세포 스페로이드를 생성시키는 S2 단계; 상기 세포 스페로이드에 포함된 세포가 상기 마이크로 필라의 단부 접촉면으로 침습되는 S3 단계; 세포 스페로이드와 그에 포함된 세포 및 마이크로 필라의 단부 접촉면에 침습된 세포를 염색 및 스캔하는 S4 단계; 및 스캔된 세포의 형광이미지를 통해 세포의 침습 비율을 다음의 수학식으로 산출하는 S5 단계를 포함하며, 상기 S3 단계는 세포 스페로이드가 생성된 마이크로 필라를 마이크로 웰에서 인출하는 S3-1 단계; 인출된 마이크로 필라의 단부 접촉면이 하향배치된 상태로 기 설정된 약물이 수납된 마이크로 웰에 마이크로 필라를 재삽입하는 S3-2 단계; 및 재삽입된 후, 세포 스페로이드에 포함된 세포가 마이크로 필라의 단부 접촉면으로 이동되어 침습 부착되는 S3-3 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세포 침습 비율을 이용한 세포이동 측정방법.[수학식](여기서, Atotal은 전체 세포 면적을 나타내며, Aspheroid는 스페로이드 면적을 나타낸다.)

청구항 1에 있어서, 상기 S2 단계는상기 필라 어레이의 마이크로 필라의 단부 접촉면이 상향되도록 배치하고, 상기 단부 접촉면 상에 세포(cell)를 포함하는 세포외기질(extracellular fluid)을 분사시켜 부착시키는 S2-1 단계;필라 어레이를 뒤집고, 마이크로 필라를 마이크로 웰에 삽입 또는 미삽입한 상태에서, 마이크로 필라의 단부 접촉면이 하향배치되도록 하고, 기 설정된 시간 동안 유지시켜 세포를 집결시키는 S2-2 단계; 및 단부 접촉면이 하향배치된 상태로 마이크로 필라를 배양액이 수용된 마이크로 웰에 삽입하여 세포외기질 내의 세포를 배양시키며 세포 스페로이드를 생성시키는 S2-3 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세포 침습 비율을 이용한 세포이동 측정방법.

청구항 2에 있어서, 상기 세포외기질은 마트리겔(matrigel)을 포함하는 것을 특징으로 하는 세포 침습 비율을 이용한 세포이동 측정방법.

청구항 2에 있어서,상기 S2-2 단계에서, 마이크로 필라의 단부 접촉면이 하향 배치 상태는 4℃에서 20분 동안 유지되는 것을 특징으로 하는 세포 침습 비율을 이용한 세포이동 측정방법.

청구항 2에 있어서,상기 S2-2 단계 및 S2-3 단계에서, 세포는 세포외기질의 하단부에 집결되는 것을 특징으로 하는 세포 침습 비율을 이용한 세포이동 측정방법.

청구항 2에 있어서,상기 S2-3 단계에서, 배양은 37℃/5%CO2 조건에서 수행되는 것을 특징으로 하는 세포 침습 비율을 이용한 세포이동 측정방법.

청구항 1에 있어서, 상기 S3 단계에서Atotal은 전체 세포 면적으로서, 녹색 형광 강도 코드 20 이상의 저강도 영역이고, Aspheroid는 스페로이드 면적으로서, 녹색 형광 강도 코드 60 이상의 고강도 영역인 것을 특징으로 하는 세포 침습 비율을 이용한 세포이동 측정방법.

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청구항 1에 있어서,상기 S3-2 단계의 약물은 암치료제인 것을 특징으로 하는 세포 침습 비율을 이용한 세포이동 측정방법.