세라믹 분말, 광경화성 단량체, 감광제 및 광개시제를 포함하는 것이며,상기 세라믹 분말은 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물 총 중량% 대비 50 내지 85 중량%로 포함되는 것이며,상기 광경화성 단량체는 광양이온 중합이 가능한 에폭시 단량체 및 옥세탄 화합물의 혼합물인 것인, 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

제1항에 있어서,상기 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물은 분산제 및 광흡수제를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

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제1항에 있어서,상기 광양이온 중합이 가능한 에폭시 단량체는 사이클로알리파틱 에폭시 수지, 글리시딜 에테르 수지 및 에폭시화 오일로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

제5항에 있어서,상기 사이클로알리파틱 에폭시 수지는 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥실카복실레이트 (3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate) 및 1,2-에폭시-4-(2-메틸 옥시라닐)-1-메틸사이클로헥산 (1,2-epoxy-4-(2-methyl oxiranyl)-1-methylcyclohexane)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

제5항에 있어서,상기 글리시딜 에테르 수지는 비스페놀형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 테트라하이드록시형 에폭시 수지 및 에폭시화 폴리비닐페놀;로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

제7항에 있어서,상기 비스페놀형 에폭시 수지는 비스페놀 A의 디글리시딜에테르, 비스페놀 F의 디글리시딜에테르 및 비스페놀 S의 디글리시딜에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상이고,상기 노볼락형 에폭시 수지는 페놀노볼락 에폭시 수지, 크레졸노볼락 에폭시 수지 및 하이드록시벤즈알데히드페놀노볼락 에폭시 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상이며,상기 테트라하이드록시형 에폭시 수지는 테트라하이드록시페닐메탄의 글리시딜에테르 및 테트라하이드록시벤조페논의 글리시딜에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

제1항에 있어서,상기 옥세탄 화합물은 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 디[(3-에틸-3-옥세타닐)메틸]에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(사이클로헥실옥시메틸)옥세탄, 페놀노볼락옥세탄, 1,3-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]벤젠, 옥세타닐실세스퀴옥산 및 옥세타닐실리케이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

제1항에 있어서,상기 감광제는 405 nm 파장 흡수가 가능한 2,4-이소프로필 티옥산톤(2,4-isopropyl thioxanthone), 벤조페논(benzophenone) 및 부틸 벤질 프탈레이트(butyl benzyl phthalate)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

제1항에 있어서,상기 광개시제는 디아릴요오드니윰 염, 방향족 오니윰 염, 트리아릴 설포니윰 염, 방향성 설퍼닐 설퍽소니윰 염 및 카바모일 설퍽소니윰 염으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 3Ｄ 프린팅용 광양이온 경화성 세라믹 슬러리 조성물.

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