제1항에 있어서,상기 화합물의 임계 미셀 농도(critical micelle concentration, CMC)는 0.5 X 10-6 M 내지 10.0 X 10-6 M인, 화합물.

제1항의 화합물을 포함하는 헤파린 검출용 조성물.

제4항에 있어서, 상기 화합물은 미셀 구조를 갖는 것인, 헤파린 검출용 조성물.

제5항에 있어서,상기 미셀의 평균 직경이 70 nm 내지 190 nm인, 헤파린 검출용 조성물.

제4항에 있어서,상기 화합물의 농도는 2 X 10-6 M 내지 60 X 10-6 M인, 헤파린 검출용 조성물.

하기 화학식 1로 표시되는 화합물:[화학식 1]상기 화학식 1에서,상기 n은 5 내지 15이고, A는 F, Cl, Br, I, CH3CO2, NO3, HSO3, CH3SO3, CH3C6H4SO3, (CF3SO2)2N, 또는 B(CN)4이다.

제1항에 있어서,상기 화합물은 화학식 2로 표시되는, 화합물:[화학식 2].

제4항에 있어서, 상기 조성물은 상기 화합물의 암모늄 작용기와 헤파린의 정전기적 인력에 의해 헤파린을 검출하는, 헤파린 검출용 조성물.

제4항에 있어서,상기 조성물은 헤파린에 노출됨에 따라 형광 세기 변화를 나타내는 것인, 헤파린 검출용 조성물.

제4항에 있어서,상기 조성물은 헤파린 농도가 증가할수록 형광 세기가 감소하는 것인, 헤파린 검출용 조성물.

제4항에 있어서,상기 조성물은 혈청 내 헤파린을 검출하는 것인, 헤파린 검출용 조성물.

제1항에 따른 화합물 또는 제4항에 따른 헤파린 검출용 조성물을 포함하는 헤파린 검출용 키트.

제1항에 따른 화합물 또는 제4항에 따른 헤파린 검출용 조성물을 분석 시료와 반응시키는 단계; 및상기 반응시킨 반응물의 형광 세기 변화를 측정하는 단계를 포함하는, 헤파린 검출 방법.

제13항에 있어서,상기 분석 시료는 혈청인 것인, 헤파린 검출 방법.

제13항에 있어서,상기 형광 세기 변화는 암모늄 작용기와 헤파린의 정전기적 인력에 의해 발생하는 것인, 헤파린 검출 방법.

제1항에 따른 화합물을 포함하는 헤파린 검출용 형광 센서.

제1항에 따른 화합물 또는 제4항에 따른 헤파린 검출용 조성물을 포함하는 과다출혈(Hemorrhage) 또는 헤파린 유도 저혈소판증(HP-induced thrombocytopenia) 진단용 조성물.