완전 수계 제조 공정에 의한 키토산 나노휘스커를 포함하는 소듐 알지네이트 나노복합체 필름 제조 방법
Manufacturing method of nanocomposite film containing chitosan nanowhisker
특허 요약
키토산 나노휘스커를 포함하는 나노복합체 필름 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 키토산 나노휘스커를 포함하는 나노복합체 필름 제조 방법은 물에 키토산 나노휘스커(chitosan nanowhisker)를 분산시킨 수용액에 소듐 알지네이트를 첨가하고 교반시켜 혼합 용액을 제조하는 단계, 상기 혼합 용액을 상온에서 정치시키는 단계, 및 상기 혼합 용액을 기판 상에 도포하고 건조시키는 단계를 포함할 수 있다.
청구항
번호청구항
1

물에 키토산(chitosan) 나노휘스커(nanowhisker)를 분산시킨 수용액에 소듐 알지네이트를 첨가하고 교반시켜 혼합 용액을 제조하는 단계;상기 혼합 용액을 상온에서 정치시키는 단계; 및상기 혼합 용액을 기판 상에 도포하고 건조시키는 단계;를 포함하는,키토산 나노휘스커를 포함하는 나노복합체 필름 제조 방법.

2

제1항에 있어서,상기 교반은 50 내지 80 ℃로 1 내지 4 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는,키토산 나노휘스커를 포함하는 나노복합체 필름 제조 방법.

3

제1항에 있어서,상기 혼합 용액에 포함된 키토산 나노휘스커의 농도는 상기 소듐 알지네이트 농도 대비 0.5 내지 1.5 중량% 인 것을 특징으로 하는, 키토산 나노휘스커를 포함하는 나노복합체 필름 제조 방법.

4

제1항에 있어서,상기 건조는 25 내지 60 ℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는,키토산 나노휘스커를 포함하는 나노복합체 필름 제조 방법.

5

제1항 방법으로 제조된, 상기 나노복합체 필름의 인장 강도는 120 MPa 이상이고, 파단신율은 11% 이상인,키토산 나노휘스커를 포함하는 나노복합체 필름.